Di bagian proses litografi, proses pemanasan secara perlahan maupun cepat bukan sekadar “langkah-langkah” yang harus diikuti saja. Itu merupakan komitmen yang harus dipatuhi. Perubahan suhu fotoresist sebesar 2°C saja sudah bisa menyebabkan perubahan dimensi kritis hingga beberapa nanometer. Satu partikel pun yang terlepas selama proses pemanasan dapat merusak wafer berukuran 300 mm. Kami membangun sistem pemanas inframerah modular untuk mengatasi masalah ini.
Yang penting secara teknis:
Kami menggunakan penghasil panas inframerah dekat (NIR) dalam bentuk array modular. Dengan cara ini, kepadatan daya dapat dikontrol secara lokal, bukan hanya rata-rata di seluruh permukaan pemanas. Hasilnya adalah keseragaman suhu pada wafer sebesar ±0,1°C selama proses berlangsung. Hal ini dapat dipantau menggunakan termokopel, dan hasilnya dibandingkan dengan data sensor yang telah dikoreksi berdasarkan nilai emisi.
Waktu responsnya sangat cepat, sehingga tidak ada gangguan termal ketika ada perubahan parameter proses. Perangkatnya juga cocok digunakan di lingkungan kliring yang bersih, dengan tingkat kontaminasi rendah, serta tanpa adanya filamen yang terbuka. Produksi partikel juga diminimalkan, dan tingkat repetibilitas proses tetap terjaga berkat kontrol berbasis siklus tertutup dan geometri penghasil panas yang tetap.
Mengapa hal ini efektif di produksi:
Proses pemanasan fotoresist merupakan titik pertemuan antara faktor termal dan hasil produksi. Anda membutuhkan ketepatan suhu agar target dimensi dapat tercapai, serta kebersihan yang tinggi agar jumlah cacat tetap minimal. Sistem kami memberikan kedua hal tersebut.
Waktu penyetelan yang singkat memungkinkan proses produksi tetap stabil. Penggunaan energi pun berkurang, karena NIR memanaskan wafer secara langsung, bukan bagian mekanis di sekitarnya. Keandalan sistem ini memungkinkan operasi 24/7. Desain modularnya memungkinkan penggantian komponen tanpa menyebabkan downtime yang tidak diinginkan.
Detil praktisnya:
Sistem ini dapat diintegrasikan dengan sistem yang sudah ada melalui antarmuka mekanis dan listrik standar. Namun, Anda tetap perlu menyesuaikan pengaturan alinhement dan nilai emisi untuk setiap jenis fotoresist dan ukuran wafer.
Anda hanya membutuhkan waktu penyetelan yang singkat untuk menyesuaikan profil pemanasan dan menetapkan batas-batas kontrol yang tepat. Setelah itu, proses produksi akan berjalan secara stabil, tanpa adanya penyimpangan atau kejutan apa pun.