Op de lithografiefaciliteiten is temperatuur geen gewone parameter – het is juist het kernpunt van het proces. Een verschil van 2°C tijdens het zachte bakken heeft invloed op de dikte van de fotorezist. Ook een klein verschil in temperatuur tijdens het harde bakken kan ertoe leiden dat de controle over de afmetingen van de wafers niet meer mogelijk is. De wafers blijven zich bewegen, de ovens stoppen nooit met werken, en er is nauwelijks ruimte voor fouten.
Wat belangrijk is onder de motorkap Wij hebben een systeem van gecombineerde verwarmingssystemen ontwikkeld, waarbij elke warmtebron apart wordt geregeld. Het doel is om de warmtepunten precies te bepalen en eventuele oneffenheden in de temperatuurverdeling te corrigeren, zonder dat dit invloed heeft op de rest van de wafers. Kortegolfhalogeen-elementen zorgen voor een snelle respons, terwijl de gesloten regelsysteem ervoor zorgen dat de temperatuurovereenkomstig de vereisten blijft, met een tolerantie van ±0,1°C over het hele bakproces heen.
Het systeem werkt in cleansrooms van klasse 1–100. Er worden materialen gebruikt die weinig gas afgeven, en de interfaces tussen kwarts en keramiek zijn goed afgesloten. Hierdoor blijft het aantal deeltjes constant, zelfs tijdens langdurig bakken. Herhaalbaarheid is hierbij cruciaal: elke keer dat er wordt gebakken, moet de temperatuurcurve dezelfde blijven.
Waarom dit werkt in echte productiefaciliteiten In productiefaciliteiten waar veel wafers worden geproduceerd, maakt gecombineerde verwarming het mogelijk om de thermische variabiliteit onder controle te houden. Hierdoor wordt het proces stabiel genoeg, waardoor er minder afval en herwerk nodig is. Ook kunnen ingenieurs betere controle uitoefenen op de afmetingen en dikte van de films op de wafers.
Deze precisie zorgt er ook voor dat er minder energie wordt verbruikt, omdat er geen compenserende oververhitting nodig is. De componenten zijn ontworpen om 24/7 te werken, met voorspelbare onderhoudsintervallen. Dit betekent minder onverwachte storingen en kortere stilstandtijden.
Wat je moet doen om het goed te krijgen Gecombineerde verwarming werkt het best wanneer de thermische verdeling overeenkomt met de lay-out van de wafers en de bakprocedure. Plan eerst het aantal en de positie van de verwarmingssystemen, rekening houdend met de geometrie van de warmtebronnen en de processpecificaties. Controleer ook goed de luchtcirculatie en de afvoerkanalen, zodat de normen van de cleansroom worden nageleefd.
Het installeren van dit systeem is gemakkelijk op de meeste productielijnen. Echter, voordat je besluit tot een wijziging, moet je eerst de mechanische specificaties en de aansluitingen controleren.