W procesie litografii „miękkie” i „twarde” suszenie nie są zwykłymi krokami w procesie produkcji – to obowiązki, których musimy przestrzegać. Nawet niewielka zmiana temperatury fotorezystu o 2°C może powodować zmianę kluczowych wymiarów elementów o kilka nanometrów. Jeden tylko cząsteczek, która powstanie podczas procesu podgrzewania, może zniszczyć płytkę o rozmiarze 300 mm. Dlatego stworzyliśmy modułowy układ grzewczy na podczerwień, który odpowiada tym wymaganiom.
Co jest istotne z punktu widzenia technicznego Używamy emiterów podczerwieni w formie modułowego układu, dzięki czemu gęstość mocy jest kontrolowana w poszczególnych strefach, a nie średnio na całej powierzchni grzejnika. Efektem jest jednorodność temperatury na poziomie ±0,1°C w całym oknie procesowym, co jest sprawdzane za pomocą termopar oraz systemów pomiarowych skorygowanych pod kątem emisyjności. Reakcja układu jest błyskawiczna, więc przy zmianie ustawień nie występują żadne problemy termiczne. Sprzęt nadaje się do pracy w warunkach czystej sali produkcyjnej – ma hermetyczną obudowę, materiały o niskiej emisyjności, bez odkrytych elementów. Ilość cząsteczek powstających podczas procesu jest niska, a powtarzalność procesu zapewniona jest dzięki kontroli w zamkniętym obiegu i stałej geometrii emiterów.
Dlaczego to działa w praktyce Proces suszenia fotorezystu polega na balansowaniu między parametrami termicznymi a jakością produktu. Potrzebna jest precyzja temperatury, aby osiągnąć wymagane wartości, a także czystość, aby uniknąć defektów. Nasz układ zapewnia oba te elementy.
Szybkie ustabilizowanie temperatury skraca czas przełączania między różnymi procesami i zapewnia stabilność produkcji. Zużycie energii jest mniejsze, ponieważ NIR grzeje bezpośrednio płytkę, a nie otaczające ją elementy. Sprzęt jest przeznaczony do pracy 24/7, a jego modułowa konstrukcja umożliwia wymianę componentów bez konieczności przerw w produkcji.
Praktyczne szczegóły Układ ten można połączyć z istniejącymi urządzeniami za pomocą standardowych interfejsów mechanicznych i elektrycznych. Jednak konieczna jest kalibracja ustawień dla każdego zestawu fotorezystu i rozmiaru płytki. Oczekuje się krótkiego czasu konfiguracji, aby ustalić odpowiednie parametry i zapewnić stabilność procesu. Po tym etapie proces będzie przebiegać bez żadnych problemów.