http://warm-ir-factory.com/bn/tags/removal/ Recent content in Removal on The Warm IR Heating Factory Hugo bn Sat, 20 Jun 2026 02:25:15 +0800 http://warm-ir-factory.com/bn/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/ Sat, 20 Jun 2026 02:25:15 +0800 http://warm-ir-factory.com/bn/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/ <p><img src="http://warm-ir-factory.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="ওয়েফার থেকে আর্দ্রতা অপসারণের জন্য হিটার ল্যাম্প"></p> <p>ওয়েফারের উপর থাকা ফটোরেসিস্ট বা নেটিভ অক্সাইডে থাকা আর্দ্রতা কোনো গুরুত্বহীন বিষয় নয়। এটি থার্মাল ব্যবস্থাকে বিঘ্নিত করে, এক্সপোজার ডোজকে প্রভাবিত করে, আর ক্রিটিক্যাল ডাইমেনশনকে অনিশ্চিত করে দেয়। যদি হিটার ল্যাম্পটি উচিত তাপমাত্রা ও পরিষ্কার-পরিচ্ছন্নতা বজায় রাখতে না পারে, তাহলে এই অনিশ্চয়তাগুলো সফ্ট বেক ও হার্ড বেক প্রক্রিয়ার মধ্য দিয়ে ওয়েফারে প্রবেশ করে।</p> <p><strong>কী গুরুত্বপূর্ণ?</strong><br> আমরা এই ওয়েফার থেকে আর্দ্রতা অপসারণের জন্য উচ্চ-ঘনত্বের কোয়ার্টজ আবরণে তৈরি শর্ট-ওয়েভ ইনফ্রারেড হ্যালোজেন উপাদানগুলো ব্যবহার করেছি। এর ফলে দ্রুত ও নির্দিষ্ট অঞ্চলে উত্তপ্তি ঘটে; আর স্পেকট্রাল নিয়ন্ত্রণও ভালো থাকে। আলোকিত অঞ্চলে তাপমাত্রা ±0.1°C এর মধ্যে থাকে; আর হাজার হাজার বেক সাইকেল ধরে এর পুনরাবৃত্তি ±0.5°C এর মধ্যেই থাকে। এই সিস্টেমটি ক্লাস 1–100 পরিষ্কার-পরিচ্ছন্ন চেম্বারে কাজ করে; আর ইন-সিটু মনিটরিংয়ের মাধ্যমে আমরা কোনো কণা উৎপন্ন না হওয়া নিশ্চিত করি। 5,000 ঘন্টা ধরে এর কার্যকারিতা স্থিতিশীল থাকে; আর নিরন্তর ব্যবহারেও তার তীব্রতা 5% এর কম হয়।</p>