http://warm-ir-factory.com/cs/tags/removal/ Recent content in Removal on The Warm IR Heating Factory Hugo cs Sat, 20 Jun 2026 02:25:15 +0800 http://warm-ir-factory.com/cs/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/ Sat, 20 Jun 2026 02:25:15 +0800 http://warm-ir-factory.com/cs/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/ <p><img src="http://warm-ir-factory.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Lampa pro odstraňování vlhkosti z waferů"></p> <p>V procesu litografie není vlhkost v fotorezistu nebo v přirozeném oxidu na desce nějakým akademickým detailem. Ovlivňuje totiž teplotní podmínky, narušuje parametry expozice a způsobuje, že kritické rozměry se stávají nestabilními. Pokud topná lampa nedokáže udržet požadovanou teplotu a čistotu, tato nestabilita se přenese i během procesů zahřívání a poté i do samotného balení desek.</p> <p><strong>Co je důležité pod kapotou</strong><br> Tuto topnou lampu pro odstranění vlhkosti na deskách jsme vyrobili na základě krátkovlnných infračervených halogenových prvků umístěných v obalech z vysoce čistého křemíku. Díky tomu dochází k rychlému lokálnímu zahřátí s přesnou kontrolou spektra. Jednotnost teploty v osvětlené <a href="https://o-yate.com">oblasti</a> zůstává na úrovni ±0,1 °C, přičemž opakovatelnost zůstává v rozmezí ±0,5 °C po tisících cyklech zahřívání. Systém funguje v prostorách s úrovní čistoty 1–100, a my kontrolujeme absenci částic pomocí monitoringu přímo v provozu. Výkon lampy zůstává stabilní i po 5 000 hodinách provozu, s odchylkou intenzity menší než 5 % při kontinuálním provozu.</p>