Modulares Infrarot Heizsystem

Mon, 22 Jun 2026 19:27:15 +0800

In der Lithografie ist das Weichbrennen sowie das Hartbrennen keine bloßen „Schritte“ im Prozess – es handelt sich dabei um Verpflichtungen, an die man sich halten muss. Eine Abweichung der Temperatur des Photoresists um 2 °C kann bereits dazu führen, dass kritische Abmessungen um Nanometer verändert werden. Ein einziger Staubpartikel während des Erhitzungsprozesses kann dazu führen, dass ein 300-mm-Wafer unbrauchbar wird. Deshalb haben wir ein modulares Infrarot-Heizsystem entwickelt, das dieser Realität gerecht wird.

Was technisch wichtig ist:
Wir nutzen Nahinfrarot-Strahler in einem modularen Arrangement. Dadurch können die Leistungsdichten zonenweise kontrolliert werden – statt dass sie über eine große Heizfläche gleichmäßig verteilt werden. Der Vorteil: Eine Homogenität der Wafertemperatur von ±0,1 °C während des gesamten Prozesses. Dies wird durch Thermoelemente überwacht und mit den Messwerten aus den Emissionssensoren verglichen. Die Reaktionszeit beträgt weniger als eine Sekunde – dadurch entstehen keine thermischen Überschläge, wenn die Prozesseverhältnisse geändert werden. Das Hardware-System ist für Reinräume der Klasse 1 geeignet: verschlossenegehäuse, Materialien mit geringer Ausgasung, keine offenen Leitungen. Dadurch bleibt die Staubentwicklung niedrig, und die Wiederholgenauigkeit wird durch geschlossene Regelkreise sowie eine feste Geometrie der Strahler gewährleistet.

Array on The Warm IR Heating Factory

Modulares Infrarot Heizsystem