Maßgefertigte Infrarotheizung für Wafer

Tue, 30 Jun 2026 01:55:58 +0800

Auf der Wafltoberfläche bedeutet eine Temperaturabweichung von 2°C während des Weichbrennvorgangs nicht nur eine Abweichung vom gewünschten Wert – es führt auch zu Ausschuss. Die Empfindlichkeit des Photoresists, die gewünschte Linienbreite sowie die zulässigen Defektdichten hängen alle von einer wiederholbaren und gleichmäßigen Wärmeabgabe ab. Wenn das thermische Profil schwankt, entstehen Probleme wie Anhaftungen oder Unregelmäßigkeiten, die erst später im Prozessprozess erkennbar werden.

Was wirklich wichtig ist
Wir entwickeln maßgeschneiderte Infrarotheizer, die den Anforderungen des Waferverarbeitungsprozesses entsprechen. Dabei werden kurzwellige oder mittelwellige Strahlquellen verwendet, um die benötigte Absorption sowie die Dauer des Brennvorgangs zu erreichen. Das Ziel ist eine gleichmäßige Temperaturverteilung auf der Wafltoberfläche – innerhalb von ±0,1°C in der beheizten Zone. Dadurch bleibt der Brennvorgang innerhalb der zulässigen Parameter. Die Wiederholgenauigkeit der Temperatur ergibt sich aus einem kalibrierten Sensorsystem sowie einer stabilen Reaktion des Strahlquells. Die Geräte sind für Reinräume der Klassen 1–100 geeignet. Sie besitzen Quarz- oder Keramikkomponenten sowie abgedichtete Anschlüsse, wodurch die Entstehung von Partikeln vermieden wird. Die Leistungsdichte wird an die Größe des Geräts sowie die Spannungsklasse angepasst. Die Anschlussmöglichkeiten entsprechen den vorhandenen Installationen, sodass die Integration sowohl mechanisch als auch elektrisch unkompliziert erfolgt.

Eigener Wunsch on The Warm IR Heating Factory

Maßgefertigte Infrarotheizung für Wafer