Heizer für die Nachbelichtung (PEB)

Fri, 26 Jun 2026 01:43:45 +0800

Im Fertigungsbereich ist die Nachbehandlung nach der Belichtung entscheidend für die Kontrolle der Dimensionen des Chips. Schon eine Abweichung von einem halben Grad auf der Wafer-Oberfläche reicht aus, um dazu zu führen, dass die benötigte Linienbreite außerhalb der zulässigen Grenzen liegt. Dadurch werden Stunden an Arbeit zur Belichtung und Ätzung umsonst investiert. Deshalb sind unsere PEB-Heizer so konzipiert, dass sie eine konstante Temperatur aufrechterhalten – Schicht für Schicht.

Was wirklich wichtig ist:
Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotstrahler mit einer Quarz-Halogen-Quelle. Diese Strahler sorgen dafür, dass die Energie schnell und effizient in den Fotoresist gelangt. So wird eine thermische Homogenität von unter einem Millimeter erreicht, während die Stabilität der Temperatur auf der Wafer-Oberfläche bei ±0,1 °C liegt. Die Wiederholgenauigkeit wird durch einen geschlossenen Regelkreis, hochauflösende Sensoren sowie eine schnelle Abkühlung gewährleistet. Die Geräte werden in Reinräumen der Klasse 1–100 eingesetzt – dadurch entstehen während des Trocknungsprozesses keine zusätzlichen Partikel. Dadurch bleibt die Anzahl der Defekte auf einem niedrigen Niveau – im Grunde genommen bei Null.

Exposition on The Warm IR Heating Factory

Heizer für die Nachbelichtung (PEB)