Heizlampe zur Entfeuchtung von Wafern

Sat, 20 Jun 2026 02:25:15 +0800

Bei der Herstellung von Fotolacken spielt die Feuchtigkeit im Fotolack oder im nativen Oxid auf dem Wafer keine unbedeutende Rolle – sie stellt vielmehr ein ernstzunehmendes Problem dar. Sie stört das Wärmemanagement, beeinträchtigt die Belichtungskraft und macht die genauen Abmessungen des Wafer unzuverlässig. Wenn die Heizlampe nicht in der Lage ist, die gewünschte Temperatur sowie Reinheit aufrechtzuerhalten, dann wirkt sich diese Unsicherheit auch auf die nachfolgenden Bearbeitungsschritte aus – und folgt dem Wafer bis in das Verpackungssystem.

Feuchtigkeit on The Warm IR Heating Factory

Heizlampe zur Entfeuchtung von Wafern