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		<title>Fortgeschritten on The Warm IR Heating Factory</title>
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		<description>Recent content in Fortgeschritten on The Warm IR Heating Factory</description>
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				<title>Zonales Heizsystem für fortschrittliche Wafernfabriken</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-factory.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Zonales Heizsystem für fortschrittliche Wafernfabriken&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Im Bereich der Lithografie ist die Temperatur nicht &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;einfach&lt;/a&gt; nur ein weiterer Parameter – sie ist vielmehr ein entscheidender &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;Bestandteil&lt;/a&gt; des Prozesses. Eine Temperaturschwankung von 2 °C wä&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;hrend&lt;/a&gt; des Weichbrennvorgangs beeinflusst die Dicke des Photorezysts. Selbst geringfügige Abweichungen während des Hartbrennvorgangs können dazu führen, dass die Kontrolle über die kritischen Abmessungen nicht mehr gewährleistet werden kann. Die Wafern bewegen sich ständig weiter, die Öfen arbeiten ununterbrochen – und das thermische Gleichgewicht hat keinerlei Toleranz.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was wirklich wichtig ist&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wir haben eine gezielte Heizung eingebaut, die aus unabhängigen Heizelementen besteht, die jeweils genau gesteuert werden können. Ziel ist es, die Hotspots zu bekämpfen und gleichzeitig eine gleichmäßige Wärmeverteilung zu gewährleisten – ohne dass die restlichen Bereiche der Wafer beeinträchtigt werden. Kurzwellige Halogenelemente sorgen für eine schnelle Reaktion, und die Schleifensteuerung hält die Homogenität auf dem Niveau von ±0,1 °C über den gesamten Brennvorgang hinweg.&lt;/p&gt;</description>
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