Handschuhfach Infrarotheizelement

Tue, 09 Jun 2026 01:18:09 +0800

In der Lithographiekammer reicht eine Drift von 0,5 °C beim Softbake des Photoresists aus, um die Linienbreite außerhalb der Spezifikation zu bringen. Sie betreiben eine Class 1–100 Linie, und jeder Zyklus hängt von Partikelanzahl, Temperaturgleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit ab. Wenn der Glovebox-Heizer den Sollwert nicht hält, verfehlen die Wafer nicht nur das Ziel – sie bringen direkt Risiken in den Ätz- und Abscheideprozess.

Was unter der Haube zählt
Wir verwenden Glovebox-Infrarot-Heizelemente, die den Wafer mit Sichtkontakt und nahinfraroter (NIR) Strahlung direkt erwärmen, abgestimmt auf die Absorption von Silizium und Photoresist. Die Reaktionszeit liegt im Sub-Sekundenbereich, und die Wafer-Uniformität bleibt im aktiven Bereich innerhalb von ±0,1 °C. Die Quarzhülle und die Filamentgeometrie sind so gewählt, dass Ausgasung minimiert und die Partikelentstehung auf null gehalten wird, sodass die Partikelanzahl im Reinraum während Bake- und Cure-Schritten unverändert bleibt. Jedes Element ist für eine stabile Leistung über mehr als 5.000 Stunden spezifiziert, mit enger Kontrolle von Spannung, Leistungsdichte und thermischem Profil – gleiche Temperatur, gleiches Profil, Lauf für Lauf.

Handschuhfach on The Warm IR Heating Factory

Handschuhfach Infrarotheizelement