Kontaktfreie Wafer Trocknungslampe

Tue, 23 Jun 2026 13:24:41 +0800

Auf dem Lithografieboden kann bereits ein einziger nasser Schritt dazu führen, dass die Qualitätsparameter des Produkts beeinträchtigt werden. Unmittelbar nach der Reinigung sind Wasserspuren sowie überschüssige Feuchtigkeit nicht nur ästhetisch störend – sie begünstigen außerdem das Anhaften von Partikeln und führen zu einer ungleichmäßigen Haftung des Fotolacks. Herkömmliche Trocknungsmethoden bergen das Risiko von Kratzern sowie des Übertrags von Partikeln. Die Folge sind Ausschusswaren sowie ungenaue Abmessungen der Wafer.

Was wirklich wichtig ist
Wir haben den kontaktlosen Wafer-Trockner um eine Kurzwellen-Infrarot-Quelle konstruiert. Dadurch wird die Waferoberfläche schnell und gleichmäßig erhitzt – ohne dass dabei Beschädigungen entstehen. Der entscheidende Parameter ist die thermische Gleichmäßigkeit: ±0,1°C über die gesamte Waferfläche. Das ist kein grober Wert – wir erreichen ihn durch eine geschlossene Steuerungsschleife, die die Verluste an den Rändern erfasst und diese in Echtzeit ausgleicht. Der Trockner ist für Reinräume der Klasse 1 geeignet; in der Trocknungszone gibt es keine beweglichen Teile. Zudem sorgt eine gefilterte Abluftführung dafür, dass die Partikelzahl unter einem bestimmten Limit bleibt. Die Wiederholgenauigkeit bei der Trocknung liegt bei 0,2°C – dadurch bleiben die Abmessungen der Wafer präzise.

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