<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>منطقهبندی شده on The Warm IR Heating Factory</title>
		<link>http://warm-ir-factory.com/fa/tags/%D9%85%D9%86%D8%B7%D9%82%D9%87%D8%A8%D9%86%D8%AF%DB%8C-%D8%B4%D8%AF%D9%87/</link>
		<description>Recent content in منطقهبندی شده on The Warm IR Heating Factory</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 11:48:03 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-factory.com/fa/tags/%D9%85%D9%86%D8%B7%D9%82%D9%87%D8%A8%D9%86%D8%AF%DB%8C-%D8%B4%D8%AF%D9%87/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>سیستم گرمایش متناوب برای کارخانههای پیشرفته تولید ویفر</title>
				<link>http://warm-ir-factory.com/fa/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 11:48:03 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-factory.com/fa/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-factory.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;سیستم گرمایش متناوب برای کارخانههای پیشرفته تولید ویفر&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در فرآیند لیتوگرافی، دما صرفاً یک پارامتر دیگر نیست؛ بلکه خودش همان فرآیند است. تغییر ۲ درجه سانتی‌گراد در دما، باعث تغییر ضخامت فوتورزیست می‌شود؛ همچنین، حتی کوچکترین تغییر در دمای حرارتی، کنترل ابعاد محصول را از حد مطلوب خارج می‌کند. ویفرها مدام در حال حرکت هستند، فرها نیز هرگز متوقف نمی‌شوند؛ بنابراین، صبری برای تغییرات دمایی وجود ندارد.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;چه چیزهایی اهمیت دارند؟&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;ما سیستم گرمایش منطقه‌ای را در اطراف بخش‌های مختلف حرارتی طراحی کرده‌ایم؛ هر بخش به طور جداگانه کنترل می‌شود. هدف این است که نقاط داغ را شناسایی کرده و مشکلات مربوط به ناهمواری‌های سطحی ویفر را برطرف کنیم، بدون اینکه بخش‌های اصلی ویفر تحت تأثیر قرار بگیرند. عناصر هالوژنی با طول موج کوتاه، پاسخ سریعی ارائه می‌دهند؛ همچنین، سیستم کنترل حلقه بسته، باعث می‌شود یکنواختی سطح ویفر در تمام مراحل حرارتی، در محدوده ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد باقی بماند.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
