http://warm-ir-factory.com/fa/tags/removal/ Recent content in Removal on The Warm IR Heating Factory Hugo fa Sat, 20 Jun 2026 02:25:15 +0800 http://warm-ir-factory.com/fa/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/ Sat, 20 Jun 2026 02:25:15 +0800 http://warm-ir-factory.com/fa/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/ <p><img src="http://warm-ir-factory.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="لامپ گرمایشی برای حذف رطوبت ویفر"></p> <p>در فرآیندهای لیتوگرافی و پردازش فوتورزیست، وجود رطوبت در فوتورزیست یا اکسید موجود روی ویفر، موضوعی بی‌اهمیت نیست. این موضوع باعث اختلال در تنظیم دما، اختلافات در میزان تابش نور، و همچنین تغییرات در ابعاد کلیدی ویفر می‌شود. اگر لامپ گرمایشی نتواند دما و سطح تمیزی لازم را حفظ کند، این نوسانات به طور مستقیم به مراحل گرمایش منتقل خواهد شد و همراه با ویفر وارد بسته‌بندی آن خواهد شد.</p> <p><strong>آنچه اهمیت دارد:</strong><br> ما این لامپ گرمایشی را بر اساس عناصر هالوژنی موج کوتاه درون ظروف کوارتزی با خلوص بالا ساخته‌ایم. این لامپ امکان گرمایش سریع و متمرکز را فراهم می‌کند؛ همچنین کنترل دقیق رنگ طیفی نور نیز امکان‌پذیر است. یکنواختی دما در ناحیه مورد نورپردازی در حد ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد است؛ همچنین تکرارپذیری این عملیات در هزاران بار گرمایش، در حد ±۰.۵ درجه سانتی‌گراد باقی می‌ماند. این سیستم در اتاق‌های پاکیزه کلاس ۱–۱۰۰ کار می‌کند؛ همچنین ما با استفاده از روش‌های نظارت در جای خود، از وجود هیچ ذره‌ای جلوگیری می‌کنیم. خروجی لامپ حتی پس از ۵٬۰۰۰ ساعت کار، پایدار باقی می‌ماند؛ همچنین کاهش شدت نور کمتر از ۵٪ در طول فعالیت مداوم است.</p>