<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Bake on The Warm IR Heating Factory</title>
		<link>http://warm-ir-factory.com/he/tags/bake/</link>
		<description>Recent content in Bake on The Warm IR Heating Factory</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>he</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 01:43:45 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-factory.com/he/tags/bake/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>מחמם לאחר חשיפה (PEB)</title>
				<link>http://warm-ir-factory.com/he/posts/post-exposure-bake-peb-heater/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 01:43:45 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-factory.com/he/posts/post-exposure-bake-peb-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-factory.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;מחמם לאחר חשיפה (PEB)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;בחדר הייצור, תהליך החימום לאחר החשיפה הוא השלב שבו נקבעת השליטה בממדים החשובים של השבב. שינוי של חצי מעלה בטמפרטורה יכול לגרום לכך שהרוחב של הקווים על השבב יעבור את הגבולות המותרים, ואז יהיה צורך לבזבז שעות רבות על חשיפה ועיבוד של השבב – לשווא. לכן, החיממים שלנו תוכננו כך שישמרו על טמפרטורה יציבה, משימה לאחר משימה.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;מה חשוב באמת?&lt;/strong&gt;&#xA;אנו משתמשים בגופי פליטה באור אינפרא-אדום בעלי ספקטרום אנרגיה של קוורץ-הלוגן. האנרגיה מועברת במהירות וביעילות לשכבת הפוטורזיסט. כך נוצרת אחידות טמפרטורית של פחות ממילימטר אחד באזור החימום, ויציבות של ±0.1°C על פני כל השבב. השליטה בטמפרטורה נעשית באמצעות מערכת של משוב סגור, חיישנים בעלי רזולוציה גבוהה, ומסה תרמית שמאפשרת יציבות מהירה ללא עליות יתר בטמפרטורה. החיממים פועלים בחדרים נקיים מסוג Class 1–100, ולכן אין יצירת חלקיקים במהלך החימום – כך שמספר הפגמים נשאר אפסי.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
