http://warm-ir-factory.com/hi/tags/%E0%A4%89%E0%A4%A8%E0%A5%8D%E0%A4%A8%E0%A4%A4/ Recent content in उन्नत on The Warm IR Heating Factory Hugo hi Wed, 17 Jun 2026 11:48:03 +0800 http://warm-ir-factory.com/hi/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/ Wed, 17 Jun 2026 11:48:03 +0800 http://warm-ir-factory.com/hi/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/ <p><img src="http://warm-ir-factory.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="उन्नत वेफर निर्माण सुविधाओं हेतु क्षेत्रवार हीटिंग प्रणाली"></p> <p>लिथोग्राफी प्रक्रिया में, तापमान केवल एक मापदंड ही नहीं है – बल्कि यही प्रक्रिया का मूल है। सॉफ्ट बेक के दौरान 2°C का अंतर भी फोटोरेजिस्ट की मोटाई को प्रभावित करता है; जबकि हार्ड बेक के दौरान थोड़ा सा भी अंतर होने से क्रिटिकल डाइमेंशन कंट्रोल विफल हो जाता है। वेफर लगातार गति में रहते हैं, ओवन कभी भी रुकते नहीं, और थर्मल बजट कोई गलती सहन नहीं करता।</p> <p><strong>वास्तव में क्या महत्वपूर्ण है?</strong><br> हमने स्वतंत्र थर्मल सेगमेंटों के आसपास विशेष तरह की हीटिंग सुविधाएँ विकसित की हैं; प्रत्येक सेगमेंट को बहुत ही सख्ती से नियंत्रित किया जाता है। इसका उद्देश्य, वेफर के किनारों पर होने वाले असमानताओं को दूर करना है, बिना वेफर के मुख्य हिस्से को प्रभावित किए। शॉर्ट-वेव हैलोजन तत्व, तेज़ प्रतिक्रिया प्रदान करते हैं; जबकि क्लोज्ड-लूप नियंत्रण, पूरे बेक प्रक्रिया के दौरान वेफर की समानता को ±0.1°C के भीतर बनाए रखता है।</p>