http://warm-ir-factory.com/hi/tags/%E0%A4%8F%E0%A4%B2%E0%A4%AA%E0%A5%80%E0%A4%B8%E0%A5%80%E0%A4%B5%E0%A5%80%E0%A4%A1%E0%A5%80/ Recent content in एलपीसीवीडी on The Warm IR Heating Factory Hugo hi Sat, 27 Jun 2026 01:45:22 +0800 http://warm-ir-factory.com/hi/posts/lpcvd-furnace-heating-element/ Sat, 27 Jun 2026 01:45:22 +0800 http://warm-ir-factory.com/hi/posts/lpcvd-furnace-heating-element/ <p><img src="http://warm-ir-factory.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="LPCVD फर्नेस का हीटिंग तत्व"></p> <p>उत्पादन प्रक्रिया में, <a href="https://henruite.com">LPCVD</a> भट्टी में होने वाला तापीय परिवर्तन कभी भी अचानक खराबी के रूप में नहीं दिखाई देता। यह तो फिल्म की मोटाई में होने वाले परिवर्तनों, लिथोग्राफी के बाद CD संरचना में होने वाले परिवर्तनों, एवं उत्पादन प्रक्रिया के अंत में अनावश्यक कचरे के रूप में ही दिखाई देता है। हम ऐसे हीटिंग तत्वों का डिज़ाइन करते हैं, ताकि तापमान नियंत्रण प्रक्रिया के निर्धारित सीमाओं के भीतर ही रहे।</p> <p><strong>तकनीकी दृष्टि से महत्वपूर्ण बातें:</strong><br> हमारे LPCVD भट्टी के हीटिंग तत्व, वेफर पर तापीय समानता को ±0.1°C की सीमा में ही बनाए रखते हैं; इससे फिल्म की मोटाई एवं उसकी संरचना में स्थिरता बनी रहती है। क्वार्ट्ज-हैलोजन डिज़ाइन तेज़ी से प्रतिक्रिया देता है, स्थिर रहता है, एवं इसमें तापीय जड़त्व भी कम होता है – इसलिए फोटोरेजिस्ट को नरम/कठोर तापमान पर संसाधित करने में कोई समस्या नहीं होती। यह उपकरण क्लीनरूम क्लास 1–100 वाले वातावरण में ही काम करता है, एवं इससे कोई कण उत्पन्न नहीं होते; इससे उन्नत उत्पादन प्रक्रियाओं हेतु आवश्यक स्तर पर ही कणों की संख्या बनी रहती है। यह 24/7 चलता रहता है, एवं बिना किसी अप्रत्याशित रुकावट के ही काम करता है।</p>