अर्धचालक ओवन का हीटिंग तत्व

Sun, 21 Jun 2026 02:42:34 +0800

थर्मल ड्रिफ्ट का प्रभाव नियॉन साइनों में दिखाई नहीं देता। लेकिन यह चुपचाप वाइडनेस कंट्रोल को प्रभावित करता है, उत्पादन की गुणवत्ता को कम करता है, एवं ऐसी स्थिति पैदा करता है जिसमें प्रक्रिया स्थिर नहीं रहती। लिथोग्राफी एवं पैकेजिंग में, फोटोरेजिस्ट के “सॉफ्ट बेक” एवं “हार्ड बेक” चरणों में ही थर्मल नियंत्रण महत्वपूर्ण होता है। यदि ओवन का हीटिंग तत्व अपना काम ठीक से नहीं कर पाता, तो इसका परिणाम CD की एकरूपता में कमी, अशुद्धियाँ, एवं पुनः कार्य करने की आवश्यकता के रूप में सामने आता है।

वेफर ओवन के लिए SK15 इन्फ्रारेड लैंप

Fri, 19 Jun 2026 02:36:57 +0800

लिथोग्राफी प्रक्रिया में, 2°C का ही अंतर भी सीडी की एकरूपता को बिगाड़ सकता है, जिससे वेफरों को पुनः संसाधन की आवश्यकता हो जाती है। इसलिए, प्रक्रिया के दौरान तापमान को स्थिर रखना आवश्यक है। SK15 इन्फ्रारेड लैंप, ठीक ऐसा ही काम करता है।

SK15 की विशेषताएँ
SK15, छोटी-तरंगदैर्घ्य वाले इन्फ्रारेड विकिरणों का उपयोग करता है; इससे ऊर्जा सीधे फोटोरेसिस्ट एवं वेफरों तक पहुँचती है। प्रतिक्रिया कुछ मिलीसेकंड में ही हो जाती है, इसलिए ओवन तेजी से निर्धारित तापमान तक पहुँच जाता है, एवं ±0.1°C की स्थिरता के साथ उस तापमान को बनाए रखता है। क्लीनरूम मानकों का भी ध्यान रखा गया है – क्लास 1–100 के मानकों के अनुरूप सामग्रियों का उपयोग किया गया है; संचालन तापमान पर कोई कण नहीं उत्पन्न होता, एवं 5,000 घंटों तक उपयोग करने के बाद भी तेज़ी में 5% से कम की कमी होती है। ऊर्जा घनत्व, वेफर ओवन के तापीय मानकों के अनुरूप है; लैंप का आकार भी मानक माउंट्स एवं विद्युत इंटरफेसों के अनुरूप है।

ओवन on The Warm IR Heating Factory

अर्धचालक ओवन का हीटिंग तत्व

वेफर ओवन के लिए SK15 इन्फ्रारेड लैंप