http://warm-ir-factory.com/hi/tags/%E0%A4%B6%E0%A4%BE%E0%A4%A8%E0%A4%A6%E0%A4%BE%E0%A4%B0/ Recent content in शानदार on The Warm IR Heating Factory Hugo hi Thu, 18 Jun 2026 01:24:15 +0800 http://warm-ir-factory.com/hi/posts/quartz-glass-shield-for-fab-lamp/ Thu, 18 Jun 2026 01:24:15 +0800 http://warm-ir-factory.com/hi/posts/quartz-glass-shield-for-fab-lamp/ <p><img src="http://warm-ir-factory.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="फैब लैंप के लिए क्वार्ट्ज ग्लास शील्ड"></p> <p>लिथोग्राफी प्रक्रिया में, फोटोरेजिस्ट को गर्म करने के दौरान लैंप का तापमान सिर्फ 0.5°C ही बदल जाने से भी वाइंडथ में विचलन हो सकता है; ऐसी स्थिति में वे वेफरों को निरीक्षण हेतु अलग रख दिया जाता है। हमने फैक्ट्री के लैंपों के लिए क्वार्ट्ज ग्लास से बना शील्ड बनाया है, ताकि ऐसा विचलन ही न हो।</p> <p><strong>क्या महत्वपूर्ण है?</strong><br> हम स्थिर ट्रांसमिशन हेतु फ्यूज्ड क्वार्ट्ज का उपयोग करते हैं; क्योंकि यह छोटी-मध्यम तरंगदैर्घ्य वाली इन्फ्रारेड किरणों के लिए उपयुक्त है, एवं तेज तापमान पर भी इसका थर्मल विस्तार कम होता है। इससे वेफरों पर तापमान स्थिर रहता है – ±0.1°C के भीतर। इससे “सॉफ्ट बेक” एवं “हार्ड बेक” प्रक्रियाएँ हर बार एक जैसी ही रहती हैं। क्लीनरूम क्लास 1–100 में, ऐसी सामग्री का उपयोग किया जाता है, ताकि कोई कण भी न बने – न तो कोई खरोंच, न ही कोई अन्य अवशेष, जिससे दोषों की संख्या बढ़े। जोड़ों एवं सीलिंग संरचनाओं को ऐसे ही डिज़ाइन किया गया है कि वे 24/7 काम कर सकें, बिना किसी रोशनी रिसाव या गर्म बिंदुओं के।</p> http://warm-ir-factory.com/hi/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/ Wed, 17 Jun 2026 11:48:03 +0800 http://warm-ir-factory.com/hi/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/ <p><img src="http://warm-ir-factory.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="उन्नत वेफर निर्माण सुविधाओं हेतु क्षेत्रवार हीटिंग प्रणाली"></p> <p>लिथोग्राफी प्रक्रिया में, तापमान केवल एक मापदंड ही नहीं है – बल्कि यही प्रक्रिया का मूल है। सॉफ्ट बेक के दौरान 2°C का अंतर भी फोटोरेजिस्ट की मोटाई को प्रभावित करता है; जबकि हार्ड बेक के दौरान थोड़ा सा भी अंतर होने से क्रिटिकल डाइमेंशन कंट्रोल विफल हो जाता है। वेफर लगातार गति में रहते हैं, ओवन कभी भी रुकते नहीं, और थर्मल बजट कोई गलती सहन नहीं करता।</p> <p><strong>वास्तव में क्या महत्वपूर्ण है?</strong><br> हमने स्वतंत्र थर्मल सेगमेंटों के आसपास विशेष तरह की हीटिंग सुविधाएँ विकसित की हैं; प्रत्येक सेगमेंट को बहुत ही सख्ती से नियंत्रित किया जाता है। इसका उद्देश्य, वेफर के किनारों पर होने वाले असमानताओं को दूर करना है, बिना वेफर के मुख्य हिस्से को प्रभावित किए। शॉर्ट-वेव हैलोजन तत्व, तेज़ प्रतिक्रिया प्रदान करते हैं; जबकि क्लोज्ड-लूप नियंत्रण, पूरे बेक प्रक्रिया के दौरान वेफर की समानता को ±0.1°C के भीतर बनाए रखता है।</p>