Lampada riscaldante per la rimozione dell umidità dai wafer

Sat, 20 Jun 2026 02:25:15 +0800

Nel processo di litografia, l’umidità presente nel fotorestito o nell’ossido naturale presente sulla sottile lamina di silicio non rappresenta certo un problema trascurabile. Essa influisce negativamente sulle condizioni termiche necessarie per il processo di trattamento, compromette la dose di radiazione utilizzata e rende le dimensioni critiche del componente in questione difficilmente controllabili. Se la lampada utilizzata per il riscaldamento non è in grado di mantenere una temperatura costante e un ambiente pulito, questa variabilità persiste anche durante i processi di riscaldamento, influenzando negativamente il risultato finale del processo di produzione.

Rimozione on The Warm IR Heating Factory

Lampada riscaldante per la rimozione dell umidità dai wafer