http://warm-ir-factory.com/ja/tags/%E3%82%AA%E3%83%BC%E3%83%96%E3%83%B3/ Recent content in オーブン on The Warm IR Heating Factory Hugo ja Sun, 21 Jun 2026 02:42:34 +0800 http://warm-ir-factory.com/ja/posts/semiconductor-oven-heating-element/ Sun, 21 Jun 2026 02:42:34 +0800 http://warm-ir-factory.com/ja/posts/semiconductor-oven-heating-element/ <p><img src="http://warm-ir-factory.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="半導体式オーブンの加熱素子"></p> <p>ネオンサインの場合、熱によるドリフトは現れません。ただ静かに線幅の制御を乱し、歩留まりを下げ、本来安定しているはずの焼成プロセスを<a href="https://o-yate.net">予測不可能</a>なものにしてしまいます。リソグラフィーやパッケージングでは、フォトレジストのソフトベイクやハードベイクの段階で熱管理が重要になります。オーブンの加熱要素が正常に機能しなければ、CDの均一性の低下やスクラムの発生、再加工が必要になります。</p> <p>設計時には、厳格な熱管理を重視します。ウェーハ全体で±0.1℃の均一性を保ち、ドアが<a href="https://goldisgood.com">開閉</a>した後もすぐに温度が安定し、再現性が高く、プロセスの範囲が一定に保たれるようにします。この加熱要素はクリーンルームでの使用を想定して設計されており、クラス1～100の環境に適応し、昇温や保持中に粒子が発生しないようになっています。温度プロファイルは数千回のサイクルを経ても安定しているため、同じ焼成曲線が繰り返し得られます。電力供給はチャンバーの質量に合わせて調整され、過剰な温度上昇を防ぎます。また、ドアや角の近くにできやすいホットスポットをなくすために、加熱要素の形状も工夫されています。</p> http://warm-ir-factory.com/ja/posts/sk15-infrared-lamp-for-wafer-oven/ Fri, 19 Jun 2026 02:36:56 +0800 http://warm-ir-factory.com/ja/posts/sk15-infrared-lamp-for-wafer-oven/ <p><img src="http://warm-ir-factory.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="ウェーハオーブン用SK15赤外線ランプ"></p> <p>リソグラフィーの工程では、わずか2°Cの温度変動だけでCDの均一性が乱れ、ウェーハが再処理が必要になってしまいます。そのため、サイクルごとに一定の範囲内で温度を維持することが不可欠です。SK15赤外線ランプは、まさにこの要件を満たすように設計されています。</p>