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		<title>와이퍼 on The Warm IR Heating Factory</title>
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		<description>Recent content in 와이퍼 on The Warm IR Heating Factory</description>
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			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 13:24:41 +0800</lastBuildDate>
		
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				<title>비접촉식 웨이퍼 건조 램프</title>
				<link>http://warm-ir-factory.com/ko/posts/non-contact-wafer-dryer-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 13:24:41 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-factory.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;비접촉식 웨이퍼 건조 램프&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;세라믹 표면 위에서는 단 한 번의 물기 남은 발걸음만으로도 제품의 품질이 좌우될 수 있습니다. 세척 직후에 생기는 물자국과 잔여 수분은 단순히 외관상의 문제가 아닙니다. 이러한 요소들은 입자가 생기게 하고, 포토레지스트가 고르게 부착되지 못하게 합니다. 기존의 접촉식 건조 방식을 사용하면 스크래치나 입자 전달의 위험이 있습니다. 그 결과로 웨이퍼가 폐기되거나 치명적인 오차가 발생할 수 있습니다.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>웨이퍼 수분 제거용 히터 램프</title>
				<link>http://warm-ir-factory.com/ko/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 02:25:15 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-factory.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;웨이퍼 수분 제거용 히터 램프&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;웨이퍼 위의 포토레지스트나 천연 산화막에 함유된 수분은 단순한 학술적 문제가 아닙니다. 이러한 수분은 열 관리에 영향을 미치고, 노출량을 왜곡시키며, 치수 제어를 어렵게 만듭니다. 만약 가열 장치가 올바른 온도와 청결도를 유지할 수 없다면, 그로 인한 변동성은 소프트 베이크 및 하드 베이크 과정에서도 계속해서 발생하며, 결국 웨이퍼에까지 영향을 미칩니다.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>웨이퍼 오븐용 SK15 적외선 램프</title>
				<link>http://warm-ir-factory.com/ko/posts/sk15-infrared-lamp-for-wafer-oven/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 02:36:56 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-factory.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;웨이퍼 오븐용 SK15 적외선 램프&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;리소그래피 공정에서는, 단 2°C만큼의 온도 변화라도 CD의 균일성에 영향을 줄 수 있으며, 그로 인해 웨이퍼가 재가공되어야 합니다. 따라서 공정이 진행될 동안 일정한 온도가 유지되어야 합니다. 웨이퍼 오븐용 SK15 적외선 램프는 바로 이러한 목적을 위해 설계된 것입니다.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
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				<title>첨단 웨이퍼 제조 공장을 위한 구역별 난방 시스템</title>
				<link>http://warm-ir-factory.com/ko/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 11:48:03 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-factory.com/ko/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-factory.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;첨단 웨이퍼 제조 공장을 위한 구역별 난방 시스템&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;리소그래피 공정에서 온도는 단순한 파라미터가 아니라, 공정 자체를 구성하는 핵심 요소입니다. 소프트 베이크 과정에서 온도가 2°C만 변동해도 포토레지스트의 두께에 영향을 주며, 하드 베이크 과정에서 조금이라도 온도가 변동하면 치명적인 결과를 초래할 수 있습니다. 웨이퍼는 계속 움직이고, 오븐도 멈추지 않으므로 열 관리가 매우 중요합니다.&lt;/p&gt;</description>
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