Pemanas inframerah khas untuk wafer

Tue, 30 Jun 2026 01:55:58 +0800

Pada permukaan wafer, perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran lembut bukan sekadar penyimpangan biasa – ia merupakan masalah yang serius. Kepekaan bahan fotoresist, ketepatan lebar garisan, serta tahap kecacatan semuanya bergantung pada suhu yang konsisten dan seragam. Apabila profil suhu berubah-ubah, ia akan menyebabkan masalah seperti pengumpulan zarah-zarah tertentu di permukaan wafer, masalah melekatnya bahan pada permukaan wafer, serta masalah lain yang hanya akan terlihat pada tahap yang lebih lanjut dalam proses pengeluaran.

Apa yang penting dalam proses ini
Kami mencipta pemanas inframerah khusus yang disesuaikan dengan keperluan proses pemprosesan wafer. Pemanas ini menggunakan sumber gelombang pendek atau sederhana agar sesuai dengan tahap penyerapan cahaya dan masa proses yang diperlukan. Tujuannya adalah untuk memastikan keseragaman suhu pada tahap wafer, iaitu dalam lingkungan ±0.1°C di seluruh kawasan yang dipanaskan. Dengan cara ini, proses pembakaran bahan fotoresist dapat berlangsung dalam julat yang ditetapkan. Ketepatan suhu dicapai melalui penggunaan sensor yang dikalibrasi dengan baik, bukan dengan cara menyesuaikan suhu secara berlebihan. Pemanas ini direka untuk digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dengan komponen yang diperbuat daripada kuarsa atau seramik, serta laluan penghantaran tenaga yang tertutup rapat, sehingga mengurangkan pembentukan zarah-zarah di udara. Kepadatan tenaga pemanas pula disesuaikan mengikut saiz alat dan jenis voltan yang digunakan. Pilihan penyambungnya juga disesuaikan dengan peralatan yang ada, sehingga integrasinya menjadi mudah dari segi mekanikal dan elektrikal.

Berdasarkan Keperluan Khusus on The Warm IR Heating Factory

Pemanas inframerah khas untuk wafer