Dapur Pemanas on The Warm IR Heating Factory

Pemanas gelombang inframerah untuk ketuhar bilik bersih

Wed, 29 Jul 2026 03:53:33 +0800

Mengapa anda harus berhenti memanaskan udara di bilik bersih
Jika anda masih menggunakan ketuhar udara bertekanan untuk proses pemprosesan semikonduktor, sebenarnya anda sedang membayar “cukai masa” setiap hari. Saya sering melihat perkara ini berlaku. Banyak kedai menggunakan sistem pengudaraan panas yang besar, namun separuh daripada tenaga yang digunakan digunakan untuk memanaskan udara dan dinding bilik tersebut, sebelum bahagian yang perlu diproses dapat merasai kesan pemanasan tersebut.

Ini merupakan pembaziran.

Perbezaan kelajuan pemanasan sangat ketara.
Fikirkan bagaimana cara kerja udara bertekanan. Ia bergerak perlahan. Udara tersebut perlu dipindahkan ke bahagian yang perlu dipanaskan. Namun, gelombang inframerah berbeza. Ia merupakan sinaran elektromagnetik yang bergerak pada kelajuan cahaya, dan ia dapat mencapai sasaran secara langsung.

Elemen pemanas dalam ketuhar berasaskan semikonduktor

Sun, 21 Jun 2026 02:42:34 +0800

Dalam proses pembuatan cip, masalah drift haba tidak kelihatan pada tanda neon. Ia hanya merosakkan kawalan ketebalan lapisan fotoresist, mengurangkan kualiti hasil pengeluaran, dan menjadikan proses yang sepatutnya stabil menjadi sesuatu yang tidak boleh diharapkan. Dalam bidang litografi dan pembungkusan, proses pemanasan fotoresist memerlukan kawalan haba yang tepat. Jika komponen pemanas tidak berfungsi dengan baik, ia akan menyebabkan masalah seperti ketidakseragaman kualiti cip, adanya zarah-zarah yang tidak diingini, dan keperluan untuk mereka ulang proses pengeluaran.

Apa yang kami fokuskan dalam reka bentuk ini adalah kawalan haba yang tepat: ketepatan suhu sebanyak ±0.1°C di seluruh permukaan wafer, masa penyejukan yang cepat setelah pintu dibuka atau ditutup, serta kebolehulangan yang tinggi agar proses pengeluaran tetap berada dalam spesifikasi yang ditetapkan. Komponen pemanas ini direka khusus untuk digunakan dalam bilik bersih, serasi dengan persekitaran Kelas 1–100, dan direka untuk mengelakkan kemunculan zarah-zarah yang tidak diingini semasa proses pemanasan. Profil suhu kekal stabil walaupun melalui ribuan kitaran, jadi kurva pemanasan yang sama dapat digunakan untuk setiap kumpulan produk yang dihasilkan. Bekalan tenaga juga disesuaikan agar tidak ada lebihan tenaga yang digunakan, dan geometri komponen pemanas direka untuk mengelakkan kawasan panas yang mungkin timbul di sekitar pintu dan sudut-sudutnya.

Lampu inframerah SK15 untuk ketuhar wafer

Fri, 19 Jun 2026 02:36:56 +0800

Di bilik litografi, anda tahu bahawa perubahan suhu sebanyak 2°C sahaja sudah cukup untuk mengganggu keseimbangan suhu pada cakera silikon tersebut, sehingga memerlukan proses pembuatan semula cakera tersebut. Oleh itu, diperlukan suhu yang tetap dalam julat yang ditetapkan, dari satu kitaran ke kitaran yang lain. Lampu inframerah SK15 direka khusus untuk tujuan ini.

Apa yang penting di sebaliknya
SK15 menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang mampu menyalurkan tenaga secara langsung ke lapisan fotoresist dan cakera silikon. Responsnya berlaku dalam masa milisaat, jadi suhu oven dapat dicapai dengan cepat, dan kestabilannya dapat dikekalkan pada tahap ±0.1°C untuk setiap kumpulan cakera silikon yang diproses. Keserasian dengan persekitaran bilik bersih juga merupakan faktor penting; bahan-bahan yang digunakan mematuhi piawaian kelas 1–100, tiada zarah terhasil semasa beroperasi, dan prestasi lampu kekal stabil walaupun selepas 5,000 jam penggunaan, dengan perbezaan intensiti kurang dari 5%. Ketumpatan tenaga lampu disesuaikan dengan keperluan oven, dan saiz lampu pula sesuai untuk dipasang dalam sistem elektrik biasa.