<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Dizonkan on The Warm IR Heating Factory</title>
		<link>http://warm-ir-factory.com/ms/tags/dizonkan/</link>
		<description>Recent content in Dizonkan on The Warm IR Heating Factory</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 11:48:03 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-factory.com/ms/tags/dizonkan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Sistem pemanasan berzoning untuk kilang pengeluaran wafer canggih</title>
				<link>http://warm-ir-factory.com/ms/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 11:48:03 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-factory.com/ms/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-factory.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Sistem pemanasan berzoning untuk kilang pengeluaran wafer canggih&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik litografi, suhu bukan sekadar parameter biasa – ia sebenarnya merupakan komponen penting dalam proses pengeluaran cip. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran yang lembut boleh mengubah ketebalan lapisan fotoresist. Selain itu, perubahan suhu yang sedikit pun semasa proses pembakaran yang keras boleh menyebabkan kawalan dimensi cip menjadi tidak tepat. Wafer sentiasa bergerak, dan oven pula tidak pernah berhenti bekerja. Oleh itu, pengurusan suhu memainkan &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;peranan&lt;/a&gt; yang sangat penting.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting di sebaliknya&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan sistem pemanasan berzon untuk setiap bahagian yang memerlukan kawalan suhu yang tepat. Tujuannya adalah untuk mengawal kawasan-kawasan yang mempunyai suhu &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;tinggi&lt;/a&gt;, tanpa mempengaruhi keseluruhan permukaan wafer. Unsur halogen berfrekuensi rendah memberikan respons yang cepat, manakala sistem kawalan tertutup memastikan ketepatan suhu pada tahap ±0.1°C sepanjang proses pembakaran.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
