Fab on The Warm IR Heating Factory

Kotak pemanas diperbuat daripada keluli tahan karat

Sat, 25 Jul 2026 02:35:48 +0800

Hentikan kebocoran haba pada peralatan anda

Kebanyakan unsur pemanas berfungsi dengan cara yang tidak terkawal – ia memancarkan haba ke semua arah. Apabila bekerja dengan peranti yang memiliki ruang yang sempit seperti yang digunakan dalam komponen semikonduktor, ini akan menimbulkan masalah. Haba tersebut akan mengenai dinding dalaman mesin, sehingga menyebabkan permukaan mesin menjadi sangat panas sehingga sukar untuk disentuh.

Ini bukan sahaja merupakan ancaman keselamatan bagi pekerja, tetapi haba yang berlebihan juga boleh menyebabkan gangguan pada fungsi elektronik, yang tentunya merosakkan ketepatan proses pengeluaran.

Penyelesaian pembuatan fabrik yang mampan

Mon, 20 Jul 2026 09:24:42 +0800

Mengawal Suhu Dengan Cekap di Kilang Pintar

Jika anda merancang untuk membina kilang yang moden, anda pasti tahu bahawa cara lama untuk memanaskan bahan-bahan di dalam kilang sudah tidak lagi efektif. Anda tidak boleh sekadar meletakkan pemanas besar di dalam bilik dan berharap segalanya akan berjalan lancar. Anda memerlukan sistem yang dapat berkomunikasi secara langsung dengan perisian yang digunakan.

Inilah di mana teknologi inframerah (IR) menjadi sangat berguna. Daripada membuang tenaga untuk memanaskan udara di seluruh bilik, IR hanya memanaskan bahan yang perlu dipanaskan sahaja. Cara ini lebih efisien, cepat, dan memerlukan ruang yang lebih sedikit.

Pengilang lampu pengeringan inframerah yang telah disahkan kualitinya.

Mon, 20 Jul 2026 09:10:35 +0800

Menjaga Kebersihan Bilik Kelas 100 yang Sebenar-Benarnya Bersih

Ketika bekerja dalam persekitaran Kelas 100, haba merupakan faktor yang perlu diambil kira dengan teliti. Bukan sekadar memastikan suhu yang sesuai, tetapi juga bahan-bahan halus yang tidak dapat dilihat oleh mata kasar.

Pemanas biasa sangat berbahaya dalam persekitaran seperti ini. Ia menghasilkan gas atau zarah-zarah kecil yang tidak dapat dilihat, namun zarah-zarah ini boleh merosakkan wafer semikonduktor atau komponen optik yang memerlukan ketepatan tinggi. Itulah sebabnya kami menggunakan lampu inframerah berbahan kuarsa sintetik berkualiti tinggi.

Peralatan bilik bersih dinaik taraf di fasiliti pengeluaran.

Fri, 17 Jul 2026 02:07:30 +0800

Hindari Kerosakan Satu Lampu daripada Merosakkan Seluruh Proses Pengeluaran Anda

Dalam fasiliti pengeluaran yang beroperasi pada kapasiti tinggi, kerosakan pada satu buah lampu bukanlah masalah kecil. Ia merupakan bencana sebenar. Apabila tiub kuarsa pecah, bukan sahaja berlaku gangguan operasi, tetapi serpihan kaca dan filamen logam akan berselerakan di seluruh bilik bersih tersebut. Dalam situasi ini, anda perlu menggantikan keseluruhan bahan yang rosak, bukan hanya satu komponen sahaja.

Kami telah mencari cara untuk mengatasi masalah ini. Kami merancang lampu inframerah sedemikian rupa agar serpihan-serpihan tersebut tidak terkena pada wafer-wafer yang digunakan dalam proses pengeluaran.

Pemeriksaan tenaga untuk proses pengeringan di kilang.

Thu, 16 Jul 2026 01:27:48 +0800

Mengapa kaedah penyembuhan menggunakan gelombang inframerah berkesan untuk semikonduktor bebas plumbum

Apabila sesebuah kilang beralih kepada penggunaan bahan-bahan bebas plumbum, cara proses pengeringan juga berubah sepenuhnya. Kebanyakan orang memulakan proses ini menggunakan ketuhar konvensional. Udara dipanaskan terlebih dahulu, dan diharapkan udara tersebut dapat menghantar haba ke permukaan bahan yang akan diproses. Namun, dalam sistem moden, cara ini tidak efektif. Ia membuang banyak tenaga, dan malah boleh merosakkan wafer yang diproses.

Kaedah penyembuhan menggunakan gelombang inframerah pula berfungsi secara berbeza. Ia menggunakan radiasi elektromagnetik untuk menghantar haba terus ke permukaan bahan yang ingin diproses.

Lampu inframerah berbahan serat karbon

Tue, 14 Jul 2026 11:48:58 +0800

Hentikan serpihan kaca: Jaga kebersihan wafer menggunakan lampu inframerah berbahan karbon fiber

Dalam kilang pengeluaran semikonduktor, kerosakan pada lampu bukan sekadar masalah teknikal biasa. Ia merupakan bencana sebenar. Apabila unsur pemanas rosak semasa operasi pada beban tinggi, ia bukan sahaja mengganggu proses pengeluaran, tetapi juga menyebabkan serpihan kaca dan bahan kimia jatuh ke permukaan wafer. Dengan satu letupan saja, keseluruhan hasil pengeluaran akan menjadi tidak berguna.

Menghadapi tekanan haba

Kami menggantikan filamen tungsten biasa dengan filamen berbahan karbon fiber. Ini kerana kepadatan haba dalam sistem ini sangat tinggi. Logam lain akan melembut dan membengkok, tetapi karbon fiber mampu bertahan. Untuk mengelakkan lapisan kuarsa daripada retak akibat tekanan tersebut, kami menggunakan kaca yang mempunyai kadar pengembangan termal yang sangat rendah. Kaca ini mampu menahan perubahan suhu dari sejuk hingga panas tanpa mengalami kerosakan.

Pengeluar pemanas industri antarabangsa

Tue, 07 Jul 2026 00:47:52 +0800

Pengenalan
Alat pencahayaan inframerah ini dibuat untuk satu tujuan sahaja: untuk memberikan pilihan yang berkualiti tinggi dan berprestasi baik, tanpa perlu membayar harga yang mahal. Jika anda mengendalikan kilang pengeluaran dan sudah bosan membayar harga yang tinggi untuk jenama-jenama terkenal, alat ini merupakan pengganti yang sesuai untuk anda. Ia direka untuk mencapai tahap prestasi yang setara dengan jenama-jenama terbaik, tetapi dengan harga yang lebih murah.

Kuasa dan Saiz: Inti Utamanya
Semuanya bergantung pada kepadatan kuasa. Alat ini beroperasi pada voltan yang tinggi, sekitar 400V, agar dapat menghasilkan kuasa sebanyak 2500W daripada tiub yang berukuran 300mm sahaja. Saiz tiub ini bukanlah kebetulan; ia membolehkan tenaga haba disalurkan ke kawasan yang kecil, yang sangat diperlukan untuk proses pemanasan tertentu atau pemprosesan wafer. Dengan kuasa yang lebih tinggi dalam ruang yang lebih kecil, masa yang diperlukan untuk proses tersebut akan berkurangan. Pastikan sistem penyejukan mesin anda mampu menangani panas yang dihasilkan oleh alat ini.

Perisai kaca kuarsa untuk lampu fabrikasi

Thu, 18 Jun 2026 01:24:15 +0800

Dalam proses litografi, perubahan suhu lampu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran bahan photoresist boleh menyebabkan lebar garisan pada wafer tidak memenuhi spesifikasi yang ditetapkan. Wafer tersebut akan ditolak untuk pemeriksaan lanjut. Kami telah membina pelindung daripada kaca kuarsa untuk melindungi lampu tersebut agar perubahan suhu dapat dikurangkan sejak awal.

Apa yang penting di sebaliknya
Kami menggunakan kaca kuarsa yang stabil dari segi transmisi cahaya dalam gelombang pendek dan sederhana, serta memiliki kadar pengembangan termal yang rendah apabila suhu berubah dengan cepat. Kaca ini dapat mengekalkan keseragaman suhu pada permukaan wafer pada tahap ±0.1°C, sehingga proses pembakaran dapat dilakukan secara konsisten dari satu batch ke batch yang lain. Di bilik bersih kelas 1–100, bahan dan cara penyambungan komponen direka agar tidak menghasilkan zarah-zarah yang boleh menyebabkan kecacatan pada wafer. Sambungan antara komponen juga direka agar dapat berfungsi 24/7 tanpa masalah kebocoran cahaya atau titik panas.

Sistem pemanasan berzoning untuk kilang pengeluaran wafer canggih

Wed, 17 Jun 2026 11:48:03 +0800

Di bilik litografi, suhu bukan sekadar parameter biasa – ia sebenarnya merupakan komponen penting dalam proses pengeluaran cip. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran yang lembut boleh mengubah ketebalan lapisan fotoresist. Selain itu, perubahan suhu yang sedikit pun semasa proses pembakaran yang keras boleh menyebabkan kawalan dimensi cip menjadi tidak tepat. Wafer sentiasa bergerak, dan oven pula tidak pernah berhenti bekerja. Oleh itu, pengurusan suhu memainkan peranan yang sangat penting.

Apa yang penting di sebaliknya
Kami menggunakan sistem pemanasan berzon untuk setiap bahagian yang memerlukan kawalan suhu yang tepat. Tujuannya adalah untuk mengawal kawasan-kawasan yang mempunyai suhu tinggi, tanpa mempengaruhi keseluruhan permukaan wafer. Unsur halogen berfrekuensi rendah memberikan respons yang cepat, manakala sistem kawalan tertutup memastikan ketepatan suhu pada tahap ±0.1°C sepanjang proses pembakaran.

Lampu pemanas bot kuarza fab

Mon, 08 Jun 2026 02:55:26 +0800

Pada lantai fab 24/7, anda tidak boleh berpura-pura bahawa penyimpangan setengah darjah tidak penting. Soft bake atau hard bake yang tersilap 0.5°C boleh menggerakkan CD, memberikan masalah kestabilan, dan menukar banyak wafer menjadi bahan buangan. Lampu pemanas bot kuarza bukan tambahan sahaja. Ia adalah sauh terma untuk litografi dan pemprosesan resist.

Apa yang penting di bawah hud

Kami membina lampu ini menggunakan inframerah gelombang pendek atau gelombang sederhana, yang dilaraskan pada penyerapan kuarza supaya bot dan timbunan wafer dipanaskan secara langsung dan cepat. Di seluruh bot, kami mengekalkan keseragaman pada ±0.1°C, dan kawalan gelung tertutup mengekalkan profil pembakaran photoresist dalam spesifikasi, dari satu kelompok ke kelompok seterusnya. Selongsong kuarza adalah ultra-murni, dan reka bentuk tidak menjana zarah — kritikal apabila barisan berjalan dalam bilik bersih Kelas 1–100.