<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Hubungi on The Warm IR Heating Factory</title>
		<link>http://warm-ir-factory.com/ms/tags/hubungi/</link>
		<description>Recent content in Hubungi on The Warm IR Heating Factory</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 13:24:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-factory.com/ms/tags/hubungi/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pengering wafer tanpa sentuhan</title>
				<link>http://warm-ir-factory.com/ms/posts/non-contact-wafer-dryer-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 13:24:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-factory.com/ms/posts/non-contact-wafer-dryer-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-factory.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Lampu pengering wafer tanpa sentuhan&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di permukaan silika yang basah, setiap langkah yang dibuat boleh mempengaruhi kualiti hasil pengeluaran. Selepas proses pembersihan, kesan air dan kelembapan yang tinggal bukan sahaja merosakkan rupa permukaan silika, tetapi juga menyebabkan partikel-partikel tertentu melekat pada permukaan tersebut, sehingga mengganggu proses penempelan bahan fotorezistan secara seragam. Kaedah &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;pengeringan&lt;/a&gt; secara konvensional pula boleh menyebabkan kerosakan pada permukaan silika serta pemindahan partikel ke permukaan tersebut. Akibatnya, silika yang dihasilkan tidak berkualiti, dan dimensi pentingnya pun berubah.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting sebenarnya:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami telah mencipta alat pengering silika tanpa sentuhan ini menggunakan sumber inframerah gelombang pendek (SWIR). Alat ini mampu memanaskan silika dengan cepat, tanpa merosakkan permukaannya. Petunjuk kualiti yang penting adalah keseragaman suhu, iaitu ±0.1°C di seluruh permukaan silika. Ini bukan sekadar angka semata-mata; kami mencapainya &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;melalui&lt;/a&gt; sistem kawalan berkelajuan tinggi yang dapat mengimbangi perbezaan suhu pada setiap bahagian silika. Alat ini sesuai digunakan dalam ruang bersih kelas 1, tanpa adanya komponen yang bergerak di zon pengeringan. Sistem penapisan udara yang digunakan pula memastikan jumlah partikel di bawah tahap yang ditetapkan. Ketepatan proses pengeringan adalah sekitar 0.2°C, yang membantu menjaga kualiti silika dan sudut-sudutnya.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
