Lampu pemanas untuk menghilangkan kelembapan pada wafer

Sat, 20 Jun 2026 02:25:15 +0800

Dalam proses litografi dan pemprosesan fotoresist, kelembapan yang terdapat pada lapisan fotoresist atau oksida semula jadi pada wafer bukanlah perkara yang boleh diabaikan. Kelembapan ini akan mengganggu keseimbangan suhu, seterusnya mempengaruhi dos pencahayaan yang digunakan. Selain itu, ia juga akan menyebabkan dimensi kritikal wafer berubah-ubah. Jika lampu pemanas tidak dapat mengekalkan suhu dan tahap kebersihan yang diperlukan, maka variasi suhu tersebut akan berterusan sepanjang proses pembakaran wafer, sehingga ke tahap pembungkusan wafer itu sendiri.

Kelembapan on The Warm IR Heating Factory

Lampu pemanas untuk menghilangkan kelembapan pada wafer