<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Keselamatan on The Warm IR Heating Factory</title>
		<link>http://warm-ir-factory.com/ms/tags/keselamatan/</link>
		<description>Recent content in Keselamatan on The Warm IR Heating Factory</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 22 Jul 2026 02:44:30 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-factory.com/ms/tags/keselamatan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer</title>
				<link>http://warm-ir-factory.com/ms/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Wed, 22 Jul 2026 02:44:30 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-factory.com/ms/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-factory.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Hentikan pembaziran masa: Mengapa pemanasan IR lebih baik daripada penggunaan udara panas untuk pemprosesan wafer&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Jika anda masih menggunakan cara pemanasan udara panas untuk pemprosesan semikonduktor, sebenarnya anda sedang membuang masa menunggu udara tersebut melakukan kerja yang sepatutnya dilakukannya.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Fikirkanlah. Dengan penggunaan udara panas, udara perlu dipanaskan terlebih dahulu, kemudian barulah haba tersebut dapat disalurkan ke permukaan wafer. Ini merupakan proses yang memerlukan masa yang lama. Pemanasan IR pula mengelakkan keperluan untuk menggunakan udara &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;sebagai&lt;/a&gt; perantara. Ia menggunakan radiasi elektromagnetik untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Tiada masa menunggu, tiada kelewatan. Hanya haba sahaja yang dihasilkan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
