Elemen pemanas dalam ketuhar LPCVD

Sat, 27 Jun 2026 01:45:22 +0800

Di bilik proses pengeluaran, perubahan suhu dalam ketuhar LPCVD tidak akan menyebabkan kegagalan secara tiba-tiba. Sebaliknya, ia akan menyebabkan profil penumpukan bahan pada permukaan wafer menjadi tidak stabil, serta menyebabkan variasi ketebalan lapisan yang terbentuk selepas proses litografi. Selain itu, bahan sisa juga akan terhasil pada akhir proses pengeluaran, tanpa sebarang amaran. Kami merancang komponen pemanas sedemikian rupa agar suhu dapat dikawal dalam julat yang ditetapkan, bukannya di luar julat tersebut.

Dari segi teknikal, komponen pemanas dalam ketuhar LPCVD mampu memastikan keseragaman suhu pada setiap bahagian wafer pada tahap ±0.1°C. Ini membantu mengawal ketebalan dan komposisi lapisan yang terbentuk. Reka bentuk komponen pemanas berbahan kuarsa-halogen membolehkan respons yang cepat, kestabilan yang tinggi, dan inersia haba yang rendah. Oleh itu, proses pembakaran bahan photoresist dapat dilakukan dengan lebih efektif, tanpa berlaku masalah suhu yang berlebihan. Komponen ini juga sesuai digunakan dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100, dan tidak menghasilkan sebarang zarah, sehingga jumlah zarah tetap pada tahap yang diperlukan untuk proses pengeluaran yang canggih. Ia boleh beroperasi 24/7 tanpa henti, dan dapat mengulangi corak suhu yang sama dari satu batch ke batch yang lain.

LPCVD on The Warm IR Heating Factory

Elemen pemanas dalam ketuhar LPCVD