<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pos on The Warm IR Heating Factory</title>
		<link>http://warm-ir-factory.com/ms/tags/pos/</link>
		<description>Recent content in Pos on The Warm IR Heating Factory</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 01:43:45 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-factory.com/ms/tags/pos/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk proses Post Exposure Bake (PEB)</title>
				<link>http://warm-ir-factory.com/ms/posts/post-exposure-bake-peb-heater/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 01:43:45 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-factory.com/ms/posts/post-exposure-bake-peb-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-factory.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk proses Post Exposure Bake (PEB)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik proses pembuatan cip, proses pemanasan selepas pendedahan adalah faktor penting yang menentukan &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;kejayaan&lt;/a&gt; atau kegagalan kawalan dimensi yang berkaitan dengan cip tersebut. Perubahan suhu sebanyak setengah darjah saja sudah cukup untuk menyebabkan lebar garis pada cip menjadi tidak memenuhi standard yang ditetapkan. Ini bermakna masa yang digunakan untuk proses pendedahan dan pengukiran akan sia-sia. Itulah sebabnya pemanas PEB direka sedemikian rupa agar dapat mengekalkan suhu yang stabil dari satu sesi ke sesi yang lain.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
