Sensor on The Warm IR Heating Factory

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Sat, 25 Jul 2026 02:55:50 +0800

Hentikan pembaziran masa untuk memanaskan udara dalam proses separa pemprosesan

Mari kita jujur: Menggunakan udara panas untuk memanaskan cip silikon merupakan cara yang sangat lambat. Anda sebenarnya terpaksa menunggu udara tersebut melakukan kerja pemanaasan tersebut. Dalam kilang pengeluaran berskala besar, kelewatan ini akan mengakibatkan masalah besar. Ia merupakan pembaziran masa yang besar, dan ia juga akan melambatkan proses pengeluaran secara keseluruhan.

Kami telah menemukan cara yang lebih baik. Daripada menggunakan udara untuk memanaskan, kami menggunakan sensor IR yang tepat serta alat pengeluarkan haba untuk memindahkan haba melalui pancaran radiasi.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Sat, 11 Jul 2026 05:28:20 +0800

Mengelakkan Keadaan Daripada Menjadi Serius: Mengeringkan Wafer MEMS dengan Selamat
Realitinya, proses pengeringan wafer sensor MEMS setelah dibersihkan menggunakan bahan kimia ibarat bermain dengan api. Terdapat unsur pemanasan yang berada sangat dekat dengan wap pelarut yang bersifat mudah meletup. Anda tidak boleh sekadar menggunakan lampu inframerah biasa dalam suasana seperti ini, kerana ia boleh menyebabkan bencana.

Itulah sebabnya kami memberi tumpuan kepada proses pengasingan cahaya tersebut. Kami membina lapisan pelindung di sekeliling lampu tersebut agar ia tidak dapat mencetuskan masalah.

Pembungkusan sensor pintar untuk gelombang inframerah

Fri, 10 Jul 2026 01:58:26 +0800

Mengapa kita menggantikan ketuhar konveksi dengan sistem pemanasan inframerah untuk pembungkusan sensor
Semua orang dalam industri pembuatan semikonduktor kini membicarakan tentang konsep kelestarian alam sekitar. Namun, sejujurnya, agak sukar untuk mencapainya tanpa mengubah cara kerja mesin-mesin tersebut. Bagi kami, langkah terbaik adalah dengan beralih daripada menggunakan ketuhar konveksi lama kepada sistem pemanasan inframerah yang lebih efisien untuk pembungkusan sensor.

Daripada memanaskan seluruh ruang di dalam kotak logam tersebut, kita menggunakan lampu inframerah berfrekuensi tinggi. Ini merupakan pendekatan yang lebih efisien. Panas akan dihantar terus ke permukaan bahan yang akan diproses.

Pemanas untuk pembuatan sensor hidrogen

Thu, 09 Jul 2026 14:37:30 +0800

Pendahuluan
Bayangkanlah sebuah bilik pengeluaran di mana udaranya penuh dengan bahan kimia pembersih yang mudah terbakar. Di tempat seperti ini, penggunaan pemanas biasa akan menimbulkan masalah. Kami mencipta lampu pemanas inframerah untuk menyelesaikan masalah ini. Reka bentuknya sangat ketat, sehingga sumber haba dapat dipisahkan sepenuhnya daripada udara di sekelilingnya.

Ini bukan sekadar pemanas biasa. Ia merupakan peralatan yang direka khusus untuk memastikan keselamatan, sambil tetap memberikan suhu yang diperlukan untuk proses pembuatan sensor.

Penjelasan Teknikal
Pemanas ini dirancang untuk menghasilkan tenaga yang tinggi dalam ruang yang kecil. Ia beroperasi pada voltan 400V dan mampu menghasilkan kuasa sebanyak 2500W, semuanya dalam tiub berdiameter 300mm. Ini bermakna sumber haba yang dihasilkan sangat kuat, sehingga permukaan bahan yang dipanaskan akan mencapai suhu yang diinginkan dengan cepat—tanpa menyebabkan sistem menjadi terlalu panas atau rosak. Voltan 400V juga sesuai dengan standard kuasa industri, jadi tidak perlu menggunakan transformer tambahan.

Sensor suhu untuk alat wafer

Sun, 31 May 2026 02:46:31 +0800

Di atas talian, wafer diletakkan di bawah lampu halogen, menunggu bakar lembut yang menetapkan profil fotoresist. Penyimpangan 2°C dalam tingkap bakar itu boleh menggerakkan dimensi kritikal beberapa nanometer, dan lot tersebut meninggalkan trek dengan kecacatan yang hanya muncul selepas pembangunan. Alat tidak akan memberi amaran terlebih dahulu. Ia hanya memberikan hasil terma, dan proses menanggung akibatnya.

Kami membina sensor suhu untuk alat wafer kerana bajet terma dalam litografi bukan pilihan—ia adalah garis pemisah antara hasil dan sisa. Jika sensor melenceng, pengawal mengejar titik set palsu. Jika tindak balas tertunda, wafer mengalami transient yang tidak pernah dijangka dalam resipi. Ketepatan, kebolehulangan, dan kesesuaian bilik bersih bukan sekadar kata kunci di sini. Ia adalah perbezaan antara operasi mengikut spesifikasi dan operasi dengan harapan.