<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Contact on The Warm IR Heating Factory</title>
		<link>http://warm-ir-factory.com/nl/tags/contact/</link>
		<description>Recent content in Contact on The Warm IR Heating Factory</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 13:24:41 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-factory.com/nl/tags/contact/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Contactloze waferdrogerlamp</title>
				<link>http://warm-ir-factory.com/nl/posts/non-contact-wafer-dryer-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 13:24:41 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-factory.com/nl/posts/non-contact-wafer-dryer-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-factory.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Contactloze waferdrogerlamp&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op het lithofloeroppervlak kan één enkele natte stap al invloed hebben op de kwaliteit van het eindproduct. Direct na het schoonmaken veroorzaken watervlekken en overtollige vochtigheid niet alleen esthetische problemen, maar ze zorgen ook voor ongelijke hechting van de fotoresist. Conventionele droogmethoden brengen het risico met zich mee dat er krassen ontstaan of dat er deeltjes worden overgedragen. Dit resulteert in afgekeurde wafers en onregelmatigheden in de afmetingen van de wafers.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Wat belangrijk is onder het oppervlak&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;We hebben de contactloze droger gebouwd rondom een kortgolf-infraroodbron. Hierdoor wordt het oppervlak van de wafer snel en gelijkmatig verwarmd, zonder dat het oppervlak &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;beschadigd&lt;/a&gt; raakt. De belangrijkste parameter is de thermische uniformiteit: ±0,1°C over het hele oppervlak van de wafer. Dat is geen willekeurig getal – we bereiken dit door middel van een gesloten controlecyclus die continu de temperatuurmonitort en op tijd corrigeert. De droger is geschikt voor gebruik in een cleanroom van klasse 1; er zijn geen bewegende delen in de droogzone en er is een gefilterde afvoerweg die zorgt voor een lage concentratie deeltjes. De herhaalbaarheid van het proces ligt binnen 0,2°C, waardoor de kwaliteit van het eindproduct gewaarborgd blijft.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
