Hittingsonderdeel van LPCVD oven

Sat, 27 Jun 2026 01:45:22 +0800

Op de productielijn vertoont zich een thermische afwijking in de LPCVD-oven nooit als een plotselinge storing. Het verschijnt eerder als een afwijkend depositieprofiel, een verspreiding van de CD-waarden die groter wordt na de lithografie, en als afval dat aan het einde van de productielijn wordt gegenereerd, zonder dat er bijzondere problemen optreden. We ontwerpen de verwarmings-elementen zodat de thermische omstandigheden binnen de gewenste grenzen blijven.

Wat technisch gezien belangrijk is: De verwarmings-elementen in onze LPCVD-ovens zorgen voor een thermische uniformiteit op het niveau van de wafer van ±0,1°C. Dit heeft direct invloed op de consistentie van de filmdikte en samenstelling. Het kwarts-halogeenontwerp reageert snel, stabiliseert zich gemakkelijk en heeft een lage thermische inertie. Hierdoor kunnen nauwkeurige temperatuurprofilen worden gebruikt tijdens het verwerken van fotoresist, zonder dat er fouten optreden. Het apparaat past zich aan aan omgevingen met een zuiverheidsclassificatie van 1–100, en produceert geen partikelen. Hierdoor blijft het aantal partikels op het vereiste niveau voor geavanceerde productieprocessen. Het apparaat kan 24/7 draaien, zonder ongeplande stilstandsperioden. Dezelfde temperatuurcurve wordt herhaald voor elke batch.

LPCVD on The Warm IR Heating Factory

Hittingsonderdeel van LPCVD oven