<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Модульный on The Warm IR Heating Factory</title>
		<link>http://warm-ir-factory.com/ru/tags/%D0%BC%D0%BE%D0%B4%D1%83%D0%BB%D1%8C%D0%BD%D1%8B%D0%B9/</link>
		<description>Recent content in Модульный on The Warm IR Heating Factory</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 19:27:15 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-factory.com/ru/tags/%D0%BC%D0%BE%D0%B4%D1%83%D0%BB%D1%8C%D0%BD%D1%8B%D0%B9/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Модульная инфракрасная система отопления</title>
				<link>http://warm-ir-factory.com/ru/posts/modular-infrared-heating-array/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 19:27:15 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-factory.com/ru/posts/modular-infrared-heating-array/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-factory.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Модульная инфракрасная система отопления&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На этапе литографии процессы мягкой и жесткой обработки фоторезиста не являются просто последовательными шагами в работе. Это обязательства, которые необходимо соблюдать. Изменение температуры фоторезиста на 2°C может привести к изменению его критических размеров на уровне нанометров. Одна лишняя частица, образующаяся в процессе нагрева, может повредить пластину диаметром 300 мм. Мы создали модульную систему инфракрасного нагрева, чтобы соответствовать всем этим требованиям.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что имеет значение с технической точки зрения&lt;/strong&gt;&#xA;Мы используем излучатели в ближнем инфракрасном диапазоне в модульной конфигурации. Благодаря этому плотность мощности контролируется в отдельных зонах, а не в целом по всей площади нагревательной поверхности. Результатом является однородность температуры на пластине в пределах ±0,1°C во всем объеме процесса. Это достигается с помощью термопар и датчиков, корректирующих данные с учетом экспозиции.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
