<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Нет on The Warm IR Heating Factory</title>
		<link>http://warm-ir-factory.com/ru/tags/%D0%BD%D0%B5%D1%82/</link>
		<description>Recent content in Нет on The Warm IR Heating Factory</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 13:24:41 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-factory.com/ru/tags/%D0%BD%D0%B5%D1%82/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа для сушки кристаллов без контакта</title>
				<link>http://warm-ir-factory.com/ru/posts/non-contact-wafer-dryer-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 13:24:41 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-factory.com/ru/posts/non-contact-wafer-dryer-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-factory.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Лампа для сушки кристаллов без контакта&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На поверхности каменной платформы даже один влажный шаг может повлиять на качество готового продукта. Сразу после очистки следы воды и остаточная влажность не являются лишь эстетической проблемой – они способствуют образованию частиц и приводят к неравномерному прилипанию фоторезиста. Традиционное сушение с использованием контакта? Это рискует привести к появлению царапин и переносу частиц. В результате получаются бракованные пластинки, а критические размеры изделий становятся неточными.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что действительно важно&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Мы разработали устройство для сушки пластинок без контакта, используя источник коротковолнового инфракрасного излучения. Оно быстро нагревает поверхность пластинки, при этом сама поверхность остается незатронутой. Важным параметром является тепловая однородность – отклонение не должно превышать ±0,1°C по всей поверхности пластинки. Этого можно добиться благодаря циклической системе управления, которая отслеживает потери тепла и компенсирует их в реальном времени. Устройство подходит для использования в чистых помещениях класса 1; в зоне сушки нет движущихся частей, а система фильтрации сохраняет уровень частиц ниже допустимого значения. Повторяемость процесса сушки составляет менее 0,2°C, что способствует точному контролю размеров изделия.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
