<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Loại Bỏ; Tháo Dỡ on The Warm IR Heating Factory</title>
		<link>http://warm-ir-factory.com/vi/tags/lo%E1%BA%A1i-b%E1%BB%8F-th%C3%A1o-d%E1%BB%A1/</link>
		<description>Recent content in Loại Bỏ; Tháo Dỡ on The Warm IR Heating Factory</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 20 Jun 2026 02:25:15 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-factory.com/vi/tags/lo%E1%BA%A1i-b%E1%BB%8F-th%C3%A1o-d%E1%BB%A1/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Đèn sấy khô hơi ẩm trên wafer</title>
				<link>http://warm-ir-factory.com/vi/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 02:25:15 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-factory.com/vi/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-factory.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Đèn sấy khô hơi ẩm trên wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Trong quy trình in ấn bằng phương pháp photolithography, độ ẩm trong lớp photoresist hoặc lớp oxit tự nhiên trên wafer không phải là yếu tố ít quan trọng. Độ ẩm này gây ảnh hưởng đến mức nhiệt cần thiết trong quá trình xử lý, làm sai lệch liều lượng ánh sáng chiếu vào wafer, và khiến các kích thước quan trọng của wafer trở nên khó kiểm soát. Nếu bóng đèn sưởi không thể duy trì được nhiệt độ và mức độ sạch cần thiết, thì những yếu tố gây biến động này sẽ tiếp tục ảnh hưởng đến quá trình xử lý wafer, ngay cả sau khi wafer được đưa vào bao bì.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
