Hệ thống sưởi ấm theo từng khu vực trong các nhà máy sản xuất wafer hiện đại

Wed, 17 Jun 2026 11:48:03 +0800

Trong quy trình in ấn bằng phương pháp lithography, nhiệt độ không chỉ là một thông số bình thường – mà chính nó chính là yếu tố quyết định chất lượng sản phẩm. Sự thay đổi nhiệt độ 2°C trong quá trình nung ẩm cũng có thể khiến độ dày của lớp phim photoresist thay đổi; còn sự thay đổi nhiệt độ dù chỉ nhỏ thôi cũng có thể làm mất kiểm soát các thông số kỹ thuật quan trọng. Các tấm wafer liên tục được di chuyển, các lò nung thì hoạt động không ngừng; vì vậy, việc kiểm soát nhiệt độ cần được thực hiện một cách chính xác.

Nâng Cao on The Warm IR Heating Factory

Hệ thống sưởi ấm theo từng khu vực trong các nhà máy sản xuất wafer hiện đại