<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>湿气 on The Warm IR Heating Factory</title>
		<link>http://warm-ir-factory.com/zh/tags/%E6%B9%BF%E6%B0%94/</link>
		<description>Recent content in 湿气 on The Warm IR Heating Factory</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>zh</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 20 Jun 2026 02:25:15 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-factory.com/zh/tags/%E6%B9%BF%E6%B0%94/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>晶圆除湿加热灯</title>
				<link>http://warm-ir-factory.com/zh/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 02:25:15 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-factory.com/zh/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-factory.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;晶圆除湿加热灯&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;在光刻过程中，晶圆表面的光阻或天然氧化物中的水分并非什么无关紧要的问题。它会干扰热处理过程，影响曝光剂量，还会导致关键尺寸无法保持稳定。如果加&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;热灯&lt;/a&gt;无法维持所需的温度和清洁度，那么这种不稳定性就会一直存在，甚至会影响到晶圆的封装过程。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;关键在于什么？&lt;/strong&gt;&#xA;我们设计的这种用于去除晶圆表面水分的加热灯，采用了高纯度石英外壳包裹的短波红外卤素元件。这样的设计能够实现快速、局部的加热效果，同时还能精确控制光谱特性。照明区域内的温度均匀性可保持在±0.1°C范围内，而在数千次加热循环后，其重复性仍能保持在±0.5°C&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;以内&lt;/a&gt;。该系统可在1-100级洁净室中运行，而且通过实时监测可以确保不会产生任何颗粒物。在连续运行5,000小时后，其输出功率依然稳定，强度变化小于5%。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
