<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>高级 on The Warm IR Heating Factory</title>
		<link>http://warm-ir-factory.com/zh/tags/%E9%AB%98%E7%BA%A7/</link>
		<description>Recent content in 高级 on The Warm IR Heating Factory</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>zh</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 11:48:03 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-factory.com/zh/tags/%E9%AB%98%E7%BA%A7/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>先进晶圆制造厂的区域式加热系统</title>
				<link>http://warm-ir-factory.com/zh/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 11:48:03 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-factory.com/zh/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-factory.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;先进晶圆制造厂的区域式加热系统&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;在光刻工序中，温度并非一个单纯的参数——它本身就是整个工艺过&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;程的关键所&lt;/a&gt;在。在软烘烤过程中，即使温度变化2°C，也会导致光刻胶的厚度发生变化；而硬烘烤时，哪怕只是微小的温度波动，也会让关键尺寸的控制变得无法实现。晶圆一直在移动，炉子则持续运转，因此对温度控制的要求极其严格。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h3 id=&#34;关键在于如何精确控制温度&#34;&gt;关键在于如何精确控制温度&lt;/h3&gt;&#xA;&lt;p&gt;我们采用了分区加热方式，&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;对各个区域&lt;/a&gt;进行独立控制。这样做的目的是确保热&lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;点得到有效&lt;/a&gt;处理，同时避免晶圆其他部分的温度受到影响。短波卤素元件能够快速响应温度变化，而闭环控制系统则能将晶圆表面的温度均匀性控制在±0.1°C以内。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;该系统可在1-100级洁净室中运行，其设计旨在避免产生颗粒物：低挥发性材料、密封的石英/陶瓷接口以及层流式气流设计，都能确保在长时间烘烤过程中依然保持低颗粒物浓度。重复性是此系统的核心优势——无论进行多少次软烘烤或硬烘烤，温度曲线都保持一致。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
