دیگر اجازه ندهید زمان خود را صرف گرم کردن هوا در فرآیندهای نیمهتمام شود.
بیایید صادق باشیم: گرم کردن ویفرهای سیلیکونی با استفاده از هوای گرم، کاری بسیار آهسته است. در واقع، ما منتظریم تا هوا کار سخت گرم کردن ویفرها را انجام دهد؛ اما در کارخانههایی که حجم تولید بالاست، این تأخیر میتواند مشکلات زیادی ایجاد کند. این موضوع باعث میشود که سایر فرآیندها نیز به تأخیر بیفتند.
ما راه بهتری پیدا کردهایم؛ به جای گردش هوا، از حسگرهای IR دقیق و فرستندههایی برای انتقال گرما از طریق تابش استفاده میکنیم.
چرا IR بهتر از روش همرفتی است؟
روش همرفتی نیاز به وجود یک محیط برای انتقال گرما دارد؛ اما IR چنین نیازی ندارد. فرستندههای IR، فوتونها را مستقیماً به سمت ویفرها ارسال میکنند؛ بنابراین نیازی نیست زمان زیادی را صرف گرم کردن کل فضای محفظه کنیم. این کار تقریباً بلافاصله انجام میشود.
هنگام ساخت این سیستمها، ما زمان زیادی را صرف تنظیم طول موجها میکنیم؛ تا انرژی به درستی وارد ماده شود و نه اینکه فقط از سطح آن منعکس شود. این تفاوت، تفاوت بین لامپهای گرمایشی که فقط باعث گرم شدن فضا میشوند و لامپهایی است که واقعاً مواد را میپزند.
مقابله با اینرسی حرارتی
فرهای قدیمی دارای اینرسی حرارتی زیادی هستند؛ آنها مدت زمان زیادی طول میکشد تا گرم شوند و حتی برای سرد شدن نیز زمان زیادی لازم است. اگر بخواهیم دما را به طور دقیق تنظیم کنیم، این کار واقعاً دشوار خواهد بود.
اما IR متفاوت است؛ این روش تقریباً فاقد اینرسی حرارتی است. میتوانیم دما را در عرض چند میلیثانیه تغییر دهیم؛ این کار بسیار سریع است. این امر به ما امکان میدهد تا فرآیندها را سریعتر انجام دهیم و تعداد بیشتری ویفر را در هر ساعت پردازش کنیم.
معایب این روش
سرعت خوبی است، اما همیشه هزینههایی وجود دارد. IR دارای جهتگیری است؛ اگر ویفر کمی از مرکز خارج باشد یا محل قرارگیری فرستندهها مناسب نباشد، نقاط گرم ایجاد خواهد شد. نمیتوانیم فقط یک لامپ IR را در آنجا قرار دهیم و امیدوار باشیم که همه چیز خوب پیش برود.
نیاز به یک سیستم حسگری دقیق داریم که بتواند سطح را به طور لحظهای زیر نظر داشته باشد و توان لازم برای هر ناحیه را تنظیم کند. همچنین، باید مطمئن شویم که سیستم خنککننده بتواند با این افزایشات ناگهانی دما کنار بیاید؛ در غیر این صورت، ویفرها دچار تغییر شکل خواهند شد.