以下に、次の分類用語を使用するページがあります “炉” LPCVD炉の加熱素子 製造現場において、LPCVD炉の熱的なずれは、突発的な故障として現れることはありません。それは、成膜プロファイルが不安定になったり、リソグラフィー後のCD分布が広がったり、あるいは工程の最終段階で何の前兆もなく不良品が生じる形で現れます。私たちは、熱バランスをプロセスの許容範囲内に保つように加熱要... Read more...
LPCVD炉の加熱素子 製造現場において、LPCVD炉の熱的なずれは、突発的な故障として現れることはありません。それは、成膜プロファイルが不安定になったり、リソグラフィー後のCD分布が広がったり、あるいは工程の最終段階で何の前兆もなく不良品が生じる形で現れます。私たちは、熱バランスをプロセスの許容範囲内に保つように加熱要... Read more...