Dalam proses litografi, perubahan suhu lampu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran bahan photoresist boleh menyebabkan lebar garisan pada wafer tidak memenuhi spesifikasi yang ditetapkan. Wafer tersebut akan ditolak untuk pemeriksaan lanjut. Kami telah membina pelindung daripada kaca kuarsa untuk melindungi lampu tersebut agar perubahan suhu dapat dikurangkan sejak awal.
Apa yang penting di sebaliknya
Kami menggunakan kaca kuarsa yang stabil dari segi transmisi cahaya dalam gelombang pendek dan sederhana, serta memiliki kadar pengembangan termal yang rendah apabila suhu berubah dengan cepat. Kaca ini dapat mengekalkan keseragaman suhu pada permukaan wafer pada tahap ±0.1°C, sehingga proses pembakaran dapat dilakukan secara konsisten dari satu batch ke batch yang lain. Di bilik bersih kelas 1–100, bahan dan cara penyambungan komponen direka agar tidak menghasilkan zarah-zarah yang boleh menyebabkan kecacatan pada wafer. Sambungan antara komponen juga direka agar dapat berfungsi 24/7 tanpa masalah kebocoran cahaya atau titik panas.
Mengapa ia penting dalam proses pembuatan
Dalam proses photoresist, ketepatan adalah faktor penting untuk meningkatkan hasil pengeluaran. Dengan memastikan keluaran lampu tetap stabil dan profil haba dapat diramalkan, variasi lebar garisan pada wafer dapat dikurangkan, begitu juga dengan keperluan untuk membaiki produk yang cacat. Pelindung ini juga membantu mengawal haba agar tidak tersebar ke tempat yang tidak sepatutnya, sekaligus mengurangkan penggunaan tenaga. Selain itu, insiden yang tidak dijangka juga dapat dikurangkan kerana perubahan suhu dapat dikawal dengan baik.
Apa yang perlu diperhatikan
Kaca kuarsa merupakan bahan yang rapuh. Ia perlu diperlakukan seperti komponen yang sangat tepat, bukan bahan yang boleh rosak akibat tekanan mekanikal. Ikuti spesifikasi tertentu semasa memasang semula lampu tersebut. Keserasian komponen bergantung pada geometri lampu, peralatan pemasangan, serta profil haba mesin tersebut. Sebelum membeli, pastikan bahawa komponen tersebut sesuai dengan spesifikasi mesin dan keperluan bilik bersih.