Yarı işleme aşamasında havayı ısıtmak için zaman kaybetmeyi bırakın.
Dürüst olalım: Silikon wafer’leri ısıtmak için odanın içinde sıcak hava dolaştırmak oldukça yavaş bir yöntemdir. Aslında havanın işi halletmesini bekliyorsunuz ve yüksek kapasiteli üretim tesislerinde bu gecikme büyük bir sorun haline gelir. Bu durum, diğer tüm süreçleri de yavaşlatır.
Daha iyi bir yöntem bulduk. Hava dolaşımı yerine, hassas IR sensörleri ve vericiler kullanarak ısıyı radyasyon yoluyla iletiyoruz.
Neden IR, konveksiyondan daha iyidir?
Konveksiyonun işleyebilmesi için bir ortama ihtiyaç vardır. IR ise böyle bir ortama ihtiyaç duymaz. IR vericileri fotonları doğrudan wafer’e gönderir. Böylece odanın tamamını ısıtmak için zaman kaybetmek zorunda kalmazsınız. Bu işlem neredeyse anlık gerçekleşir.
Bu sistemleri kurarken “dalga boyu ayarlaması” konusunda çok zaman harcarız. Vericileri öyle ayarlarız ki enerji malzemenin içine işlesin, sadece yüzeyden geri sekmesin. Bu, sizi sıcak hissettiren bir ısı lambası ile gerçekten yemeği pişiren bir ısı lambası arasındaki farktır.
Termal ataletle başa çıkma
Eski tip hava fırınlarının büyük bir termal ataleti vardır. Isınmaları uzun sürer ve soğumaları da daha da uzun sürer. Eğer hassas sıcaklık kontrolü yapmak istiyorsanız bu durum tam bir kabus olur.
IR ise farklıdır. Neredeyse hiç ataleti yoktur. Sıcaklığı milisaniyeler içinde artırabilir veya azaltabilirsiniz. Bu sayede işlem sürelerini kısaltabilir ve her saat daha fazla wafer işleyebilirsiniz.
Eksiklikler (Çünkü her zaman bir eksiklik vardır)
Hız harika olsa da bunun bir bedeli vardır. IR ışınları belirli bir yönde hareket eder. Eğer waferiniz hafifçe merkezden sapmışsa veya verici dizisi düzgün değilse, sıcak noktalar oluşur. Sadece bir IR lambası yerleştirip en iyisini ummak yeterli değildir. Gerçek zamanlı olarak yüzeyi izleyen ve her bölge için gücü ayarlayabilen bir sensöre ihtiyacınız vardır. Ayrıca, soğutma sisteminizin bu ani sıcaklık artışlarını karşılayabileceğinden emin olmalısınız; aksi takdirde waferleriniz bozulur.