На етапі літографії процеси „м’якого“ та „жорсткого“ випалювання фотополімеру є не просто кроками у процесі виробництва. Це обов’язки, яких потрібно дотримуватися. Зміна температури фотополімеру на 2°C може призвести до зміни критичних розмірів на рівні нанометрів. Одна-дві частинки, які утворюються під час нагрівання, можуть зіпсувати віск з розміром 300 мм. Ми створили модульну систему інфрачервоного нагріву, яка враховує ці реалії.
Що має значення з технічної точки зору Ми використовуємо випромінювачі ближнього інфрачервоного спектру в модульній конструкції. Це дозволяє контролювати щільність потужності в окремих зонах, а не середню значення по всій поверхні платформи. Результат – однорідність температури на рівні ±0,1°C протягом усього процесу виробництва. Це контролюється за допомогою термопар та системи вимірювання, скоригованої на параметри випромінювання.
Час реакції системи становить менше секунди, тож коли змінюються параметри процесу, не виникає перепадів температури. Обладнання підходить для роботи в чистій кімнаті класу 1 – закритий корпус, матеріали з низьким рівнем випаровування, відсутність відкритих елементів. Кількість частинок, які утворюються під час нагрівання, залишається на низькому рівні, а повторюваність результатів забезпечується завдяки замкнутому контролю та фіксованій геометрії випромінювачів.
Чому це ефективно на виробничій лінії Під час випалювання фотополімеру важлива як точність температури, так і чистота середовища для зменшення кількості дефектів. Наша система забезпечує обидва ці параметри.
Швидке досягнення бажаної температури скорочує час переходу на новий продукт та забезпечує стабільність процесу. Витрати енергії знижуються, оскільки інфрачервоне випромінювання нагріває сам віск, а не оточуючі елементи. Надійність обладнання забезпечується можливістю його 24/7 роботи. Модульна конструкція дозволяє замінювати компоненти без переривання виробництва.
Практичні деталі Система інтегрується з існуючим обладнанням через стандартні механічні та електричні інтерфейси. Проте необхідно налаштувати параметри вирівнювання та емісії для кожної конфігурації фотополімеру та розміру віска.
Очікується короткий час налаштування для досягнення бажаних параметрів та фіксації меж контролю. Після цього процес буде працювати стабільно – без змін температури та несподіванок.