সেমি-প্রসেসিং প্রক্রিয়ায় বাতাস গরম করার জন্য সময় নষ্ট করা বন্ধ করুন।
সত্যি বলতে, সিলিকন ওয়েফারকে গরম করার জন্য চেম্বারে গরম বাতাস প্রবাহিত করাটা খুবই ধীর প্রক্রিয়া। আপনাকে অপেক্ষা করতে হয়; আর উচ্চ-পরিমাণে উৎপাদন করার ক্ষেত্রে এই বিলম্বটা খুবই বড় সমস্যা হয়ে দাঁড়ায়। এটা অন্যান্য কাজগুলোকেও ব্যাহত করে।
আমরা এর চেয়ে ভালো উপায় খুঁজে পেয়েছি। বাতাস প্রবাহিত করার পরিবর্তে, আমরা প্রিসিশন IR সেন্সর ও ইমিটার ব্যবহার করে বিকিরণের মাধ্যমে তাপ সরবরাহ করি।
কেন IR কনভেকশনের চেয়ে ভালো?
কনভেকশনের ক্ষেত্রে কাজ করার জন্য একটি মাধ্যম প্রয়োজন; কিন্তু IR-এর ক্ষেত্রে তেমন কিছু দরকার নেই। IR ইমিটারগুলো ফোটনগুলোকে সরাসরি ওয়েফারের মধ্যে পাঠায়। আপনাকে প্রথমে চেম্বারের সমগ্র অংশকে গরম করার জন্য সময় নষ্ট করতে হয় না। এটা প্রায় তৎক্ষণাৎ ঘটে।
থার্মাল ইনার্শিয়া সমস্যা
পুরানো ধরনের এয়ার ওভেনগুলোতে অনেক “থার্মাল ইনার্শিয়া” থাকে। এগুলো গরম হতে অনেক সময় নেয়; আর ঠান্ডা হতেও অনেক সময় লাগে। যদি আপনি নির্ভুল তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ করতে চান, তাহলে এটা খুবই কঠিন।
কিন্তু IR-এর ক্ষেত্রে এমন কোনো সমস্যা নেই। আপনি মিলিসেকেন্ডের মধ্যেই তাপমাত্রা বাড়াতে বা কমাতে পারেন। এটা খুবই দ্রুত। এর ফলে আপনি প্রতি ঘণ্টায় আরও বেশি সংখ্যক ওয়েফার প্রক্রিয়াজাত করতে পারেন।
কিন্তু এরও কিছু সমস্যা আছে…
গতি অবশ্যই ভালো; কিন্তু এর জন্য কিছু ত্যাগ করতে হয়। IR হলো দিকনির্দেশক ব্যবস্থা। যদি আপনার ওয়েফারটি সামান্য ভুল অবস্থায় থাকে, অথবা ইমিটারগুলো ঠিকমতো কাজ না করে, তাহলে কিছু জায়গায় অতিরিক্ত তাপ সৃষ্টি হবে। আপনি শুধুমাত্র IR ল্যাম্প লাগিয়ে ভালো ফলাফল আশা করতে পারেন না।
আপনার এমন একটি সেন্সর সিস্টেম দরকার, যা বাস্তব সময়ে পৃষ্ঠটি পর্যবেক্ষণ করে এবং প্রতিটি অঞ্চলের জন্য শক্তি নিয়ন্ত্রণ করে। এছাড়াও, আপনাকে নিশ্চিত হতে হবে যে আপনার কুলিং সিস্টেমটি এই দ্রুত তাপ পরিবর্তনগুলো সামলাতে পারে; নইলে ওয়েফারগুলো নষ্ট হয়ে যাবে।