Bei der Herstellung von Fotolacken spielt die Feuchtigkeit im Fotolack oder im nativen Oxid auf dem Wafer keine unbedeutende Rolle – sie stellt vielmehr ein ernstzunehmendes Problem dar. Sie stört das Wärmemanagement, beeinträchtigt die Belichtungskraft und macht die genauen Abmessungen des Wafer unzuverlässig. Wenn die Heizlampe nicht in der Lage ist, die gewünschte Temperatur sowie Reinheit aufrechtzuerhalten, dann wirkt sich diese Unsicherheit auch auf die nachfolgenden Bearbeitungsschritte aus – und folgt dem Wafer bis in das Verpackungssystem.
Was wirklich wichtig ist
Wir haben diese Heizlampe für das Entfernen von Feuchtigkeit aus dem Wafer so konstruiert, dass sie kurzwellige Infrarotstrahlen nutzt, die in hochreinen Quarzkästen gehalten werden. Dadurch wird eine schnelle, gezielte Erwärmung erreicht, wobei die Spektralstruktur genau kontrolliert werden kann. Die Temperaturgleichmäßigkeit in der beleuchteten Zone liegt bei ±0,1°C, und die Wiederholgenauigkeit bleibt über Tausende von Bearbeitungsschritten bei ±0,5°C. Das System funktioniert in Saalklassen 1–100 – wir überprüfen außerdem regelmäßig, ob es zu keiner Partikelbildung kommt. Die Leistung bleibt auch nach 5.000 Betriebsstunden stabil, wobei die Intensität nur um weniger als 5% abnimmt.
Im Rahmen der Lithografie- und Fotolackverarbeitung trifft die Lampe auf die Feuchtigkeit bereits vor der ersten Bearbeitungsschritt – dadurch wird das Bearbeitungsprofil für die weitere Verarbeitung bestimmt. Dadurch wird der „Skin-Effekt“ verringert und die Unregelmäßigkeiten beim Schmelzen des Fotolacks gemindert.
Die Vorteile sind messbar: Die Defektdichte nimmt ab, die Kontrolle über die Abmessungen des Wafer wird verbessert – und man muss keine unnötigen Bearbeitungsschritte mehr durchführen. Der Energieverbrauch sinkt, da nur die gewünschte Stelle erhitzt wird, nicht die Wände der Kammer. Durch das spezielle Filamentdesign sowie die kontrollierten thermischen Belastungen können die Austauschintervalle verlängert werden – dadurch wird der Lagerbestand reduziert und die Wartungsfenster verkürzt.
Die Installation erfordert eine präzise Ausrichtung sowie eine gute Wärmeableitung. Stellen Sie sicher, dass die optische Ausrichtung korrekt ist und dass die angrenzenden Polymermaterialien sowie Optiken den erforderlichen Anforderungen entsprechen.
Die Lampe funktioniert nur dann richtig, wenn die Oberfläche des Wafer sich im Fokalplan befindet. Ist sie nicht im Fokalplan, leidet die Temperaturgleichmäßigkeit. Stellen Sie außerdem sicher, dass der Controller in der Lage ist, die Temperatur zu regulieren – und dass die Stromversorgung sowie die Anschlüsse zur Spannungs- und Stromstärke der Anlage passen. Planen Sie außerdem regelmäßige Inspektionen des Quarzes, um eine Ablagerung von Schichtstoffen zu verhindern und die Spektraldaten konstant zu halten.