Hören Sie auf, Zeit mit dem Erwärmen der Luft in der Halbfertigungsphase zu verschwenden! Seien wir ehrlich: Es ist einfach zu langsam, heiße Luft...

Hören Sie auf, Zeit zu verschwenden: Warum IR-Heizung besser ist als Unterdruckluft zur Erwärmung von Wafern Falls Sie immer noch Unterdruckluft zur...

Hören Sie auf, Ihre Maschine zu erhitzen – heizen Sie stattdessen die Wafer direkt. Wenn Sie schon einmal mit Halbleiterwafern gearbeitet haben,...

Hören Sie auf, zuzulassen, dass Lampenversagen Ihre Wafer-Batches zerstört! Hier ist das Albtraumszenario: Sie führen eine Prozessschritt mit hoher...

Verhindern, dass alles in die Luft fliegt: Sicheres Trocknen von MEMS-Wafern Die Realität ist folgende: Das Trocknen von MEMS-Sensorwafern nach einer...

Hochleistungs-Infrarot-Heizgeräte für Halbleiterwafern: Eine praktische Lösung für die Halbleiterindustrie Wenn man eine Fertigungsanlage betreibt,...

Auf der Wafltoberfläche bedeutet eine Temperaturabweichung von 2°C während des Weichbrennvorgangs nicht nur eine Abweichung vom gewünschten Wert – es...

Auf dem Lithografieboden kann bereits ein einziger nasser Schritt dazu führen, dass die Qualitätsparameter des Produkts beeinträchtigt werden....

Bei der Herstellung von Fotolacken spielt die Feuchtigkeit im Fotolack oder im nativen Oxid auf dem Wafer keine unbedeutende Rolle – sie stellt...

Im Bereich der Lithografie weiß man ja, wie schon eine Abweichung von nur 2°C im Prozessprofil die Homogenität der CD-Struktur beeinträchtigen kann –...

Im Bereich der Lithografie ist die Temperatur nicht einfach nur ein weiterer Parameter – sie ist vielmehr ein entscheidender Bestandteil des...

On the line sitzt der Wafer unter den Halogenlampen und wartet auf den Softbake, der das Photoresist-Profil fixiert. Eine Abweichung von 2°C im...