Op het lithofloeroppervlak kan één enkele natte stap al invloed hebben op de kwaliteit van het eindproduct. Direct na het schoonmaken veroorzaken watervlekken en overtollige vochtigheid niet alleen esthetische problemen, maar ze zorgen ook voor ongelijke hechting van de fotoresist. Conventionele droogmethoden brengen het risico met zich mee dat er krassen ontstaan of dat er deeltjes worden overgedragen. Dit resulteert in afgekeurde wafers en onregelmatigheden in de afmetingen van de wafers.
Wat belangrijk is onder het oppervlak
We hebben de contactloze droger gebouwd rondom een kortgolf-infraroodbron. Hierdoor wordt het oppervlak van de wafer snel en gelijkmatig verwarmd, zonder dat het oppervlak beschadigd raakt. De belangrijkste parameter is de thermische uniformiteit: ±0,1°C over het hele oppervlak van de wafer. Dat is geen willekeurig getal – we bereiken dit door middel van een gesloten controlecyclus die continu de temperatuurmonitort en op tijd corrigeert. De droger is geschikt voor gebruik in een cleanroom van klasse 1; er zijn geen bewegende delen in de droogzone en er is een gefilterde afvoerweg die zorgt voor een lage concentratie deeltjes. De herhaalbaarheid van het proces ligt binnen 0,2°C, waardoor de kwaliteit van het eindproduct gewaarborgd blijft.
Waarom werkt deze droger goed in productielijnen met veel verschillende producten?
De droger werkt op dezelfde manier bij 300 mm als bij 200 mm, ongeacht of het om oxide-, nitride- of metaallagen gaat. Contactloos drogen voorkomt microscopische krassen en verminderen de slijtage van onderdelen die nodig zijn voor onderhoud. De snelle thermische respons verkort de droogtijd, zodat je meer productie kunt maken zonder dat dit negatieve gevolgen heeft voor de kwaliteit. De energieverbruik neemt af, omdat de lamp alleen het te drogen materiaal verwarmt, en niet de omringende onderdelen. Het resultaat is minder defecten bij inspecties, nauwkeurigere procesparameters en betrouwbare planningen.
Enkele praktische tips:
De lamp heeft een schone, gefilterde stroomvoorziening nodig, evenals stabiel koelwater. De optische pathway moet nauwkeurig worden gericht, binnen een marge van 0,5 mm, om de uniformiteit te behouden. Voordat je de droger gebruikt, moet je eerst een snel testrit uitvoeren om de exacte afmetingen van het te drogen materiaal vast te stellen en om te controleren of de droogtijd overeenkomt met de vereisten van de fotoresist.