팹 램프용 석영 유리 쉴드
리소그래피 라인에서는, 포토레지스트를 가열하는 과정에서 램프의 온도가 단 0.5°C만 변동해도 회로선의 굵기가 규격에서 벗어날 수 있습니다. 그렇게 되면 해당 웨이퍼들은 검사 과정에서 문제 있는 것으로 분류됩니다. 우리는 이러한 온도 변동을 막기 위해 램프 주위에 석...
첨단 웨이퍼 제조 공장을 위한 구역별 난방 시스템
리소그래피 공정에서 온도는 단순한 파라미터가 아니라, 공정 자체를 구성하는 핵심 요소입니다. 소프트 베이크 과정에서 온도가 2°C만 변동해도 포토레지스트의 두께에 영향을 주며, 하드 베이크 과정에서 조금이라도 온도가 변동하면 치명적인 결과를 초래할 수 있습니다. 웨이...